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刻蝕工藝
把未被抗蝕劑掩蔽的薄膜層除去,從而在薄膜上得到與抗蝕劑膜上完全相同圖形的工藝。在積體電路製造過程中,經過掩模套準、曝光和顯影,在抗蝕劑膜上複印出所需的圖...
正文 刻蝕分類 -
刻蝕
刻蝕,英文為Etch,它是半導體製造工藝,微電子IC製造工藝以及微納製造工藝中的一種相當重要的步驟。是與光刻相聯繫的圖形化(pattern)處理的一種主...
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等離子刻蝕機
等離子刻蝕機,又叫等離子蝕刻機、等離子平面刻蝕機、電漿刻蝕機、等離子表面處理儀、等離子清洗系統等。等離子刻蝕,是乾法刻蝕中最常見的一種形式,其原理是...
產品介紹 影響因素 缺點 裝片 測量與控制 -
等離子刻蝕速率
等離子刻蝕速率是指等離子刻蝕過程去除晶片表面不需要材料的速度,刻蝕速率正比於蝕劑濃度,與晶片表面形狀等因素有關。
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離子束刻蝕
離子束刻蝕也稱為離子銑,是指當定向高能離子向固體靶撞擊時,能量從入射離子轉移到固體表面原子上,如果固體表面原子間結合能低於入射離子能量時,固體表面原子就...
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薄膜刻蝕技術
薄膜刻蝕技術是一種使用物理或化學的方法使薄膜材料消蝕的技術。它是薄膜澱積的反過程。
名稱 內容 -
科學院物理研究所
科學院物理研究所是於1950年在中央研究院物理研究所和北平研究院物理研究所兩所合併的基礎上成立的。
介紹 研究方向 近況 合作 成果 -
中國科學院物理研究所
中國科學院物理研究所(Institute of Physics CAS)前身是成立於1928年的國立中央研究院物理研究所和成立於1929年的北平研究院物...
歷史沿革 科研條件 科研成就 人才培養 文化傳統 -
可靠性物理
電子元器件失效分析的程式 電子元器件失效分析方法 電子元器件失效分析技術
基本信息 內容簡介 目錄 -
南京大學材料物理與工程系
南京大學材料物理與工程系起源於物理與化學學科的交叉。1990年,在南京大學固體微結構物理國家重點實驗室和配位化學國家重點實驗室的基礎上,組建了材料科學研究所。由閔乃本(物理)和楊昌正(化學)教授出任正副所長...
南京大學材料物理與工程系 發展 6