微細加工光學技術國家重點實驗室

微細加工光學技術國家重點實驗室是1991年由國家計委批准,通過世界銀行貸款建設起來的國家重點實驗室。主要研究方向為微細加工光學技術基礎與套用研究。

簡介

細加工光學技術國家重點實驗室細加工光學技術國家重點實驗室

微細加工光學技術國家重點實驗室是1991年由國家計委批准,通過世界銀行貸款建設起來的國家重點實驗室。1993年12月經國家計委和中科院批准對外開放。多年來面向國家戰略需求、面向本學科高技術前沿,凝練和提升科技目標,進一步明確了實驗室的研究方向是微細加工光學技術基礎和套用研究。主要研究內容是微光學研究及套用、折衍混合光學技術和系統、微電子光學關鍵技術原理和方法研究。我們進行學科布局的調整,注重科技成果套用,使實驗室在微光學技術平台的建立、微電子光學關鍵技術研究和爭取國家重大項目等方面都取得了豐碩的成果

人才培養

近年來,實驗室建立了有利於激勵科研人員銳意創新的運行機制,人員層次結構大有改善,科研隊伍建設取得了顯著進展。提倡和實施事業留人、環境留人、待遇留人等一系列吸引、穩定科技骨幹的措施,激發了科研人員爭取國家重大項目的積極性,加快了科技成果轉化,使年度科研經費有了突破性增加。科研基礎設施得到一定改善,科研人員的待遇得到明顯提高,增強了實驗室的凝聚力。幾年來,培養了一批德才兼備的青年科技人才,現已成為實驗室領導及學術帶頭人,形成了學術氣氛濃 厚,學風嚴謹,有競爭力,獻身科學、以年輕人為主的朝氣蓬勃的研究群體。博士、碩士占全室人員的59%,有高級職稱的科技人員占70 %。

科研成果

1997年以來,實驗室瞄準國家在該領域的戰略需求和高技術前沿研究,承擔了多項國家自然科學基金項目、國家863項目、部委以及中科院重大項目。並取得了多項重要科研成果,形成了具有自主智慧財產權的微細加工光學技術平台,開拓了星敏感器、微透鏡列陣與紅外焦平面探測器集成晶片半導體雷射器列陣微光學整形模組、生物晶片儀器以及深刻蝕光刻曝光等一系列套用領域。

1997年以來,獲得國家科技進步獎三等獎1項,中國科學院科技進步獎一等獎1項,三等獎1項,中科院自然科學獎三等獎1項,四川省科技進步三等獎1項。受理髮明專利20件、授權實用新型專利24件。在國內外核心科技刊物及各類會議上發表學術論文260餘篇,其中被SCI收錄3篇,EI收錄50篇,ISTP收錄11篇,CSCD收錄52篇,專(合)著1本,論文集1集。

研究內容

(1) 微光學研究及套用:微光學(包括衍射光學)的相關理論與最佳化設計方法,微列陣光學元件製作的新方法和新工藝、深浮雕微細結構的成形方法與測試技術,建立具有自主智慧財產權的微光學技術平台,促進成果轉化,實現用於信息和國防安全等領域的多種微光學小系統; 

(2) 折衍混合光學技術和系統:研究新型折衍混合光學系統設計與最佳化,解決輕量化光學系統在空間的套用及空間環境中的適應性等問題,研製出高性能、輕量化星敏感器光學系統與整機。拓寬折衍混合光學成像系統在航天領的套用,滿足國家需求,完成航天領域的重要任務; 

(3) 微電子光學關鍵技術原理和方法研究: 開展深亞微米光刻關鍵技術原理和方法研究,包括X射線光刻、準分子光刻、原子力光刻等。突破0.07mm—0.18mm光刻關鍵技術,進一步探索光刻領域高技術前沿,研究用波前工程方法提高解析度的實用化問題。為我國科技部部署的微電子裝備產業跨越式發展(0.1mm)提供技術支撐。

研究方向

微細加工光學技術基礎與套用研究。

研究目標

面向微光學、折衍混合光學和微電子光學技術國家戰略需求,面向信息領域的國際高科技前沿,將實驗室建設成為微光學、微電子光學技術創新的國際一流研究基地和培養高水平研發人才的基地。

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