基本資料
凹槽內反射式琢型寶石加工工藝。對中低檔寶石進行預形及桌面【1】粗細研磨並拋光，再將寶石冠部多個主刻面【3】和多個星刻面【2】研磨好，將全部刻面拋光；寶石的亭部磨出多個亭部左主刻面【4】和多個亭部右主刻面【5】，亭部必須收尖；將多個亭部左主刻面【4】和多個亭部右主刻面【5】呈凹槽狀刻出；最後進行拋光。本發明凹槽內反射式琢型的冠部除了桌面【1】外只有星狀刻面【2】和冠部主刻面【3】，這樣不僅保證了寶石的火彩塊頭大，而且減少了切磨程式，節約了加工成本。使中低檔寶石的切割達到最理想光學效果和視覺效果，開發其潛在的市場價值。
