套用範圍概述
電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗電子管生產電子管陰極塗敷碳酸鹽配液顯像管和陰極射線管生產配料用純水黑白顯像管螢光屏生產玻殼清洗、沉澱、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水液晶顯示器的生產屏面需用純水清洗和用純水配液電晶體生產中主要用於清洗矽片，另有少量用於藥液配製積體電路生產中高純水清洗矽片等。典型工藝流程
預處理系統-反滲透系統-中間水箱-粗混合床-精混合床-純水箱-純水泵-紫外線殺菌器-拋光混床-精密過濾器-用水對象(≥18MΩ。CM)(傳統工藝)預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-拋光混床-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥18MΩ。CM)(最新工藝)
預處理-一級反滲透-加藥機(PH調節)-中間水箱-第二級反滲透(正電荷反滲膜)-純水箱-純水泵-EDI裝置-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥17MΩ。CM)(最新工藝)
預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥15MΩ。CM)(最新工藝)
處理系統-反滲透系統-中間水箱-純水泵-粗混合床-精混合床-紫外線殺菌器-精密過濾器-用水對象(≥15MΩ。CM)(傳統工藝)
