概述
半導體、積體電路晶片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模積體電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。積體電路的集成度越高，線寬越窄，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。工藝流程
1、源水→源水增壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→陽離子交換器→陰離子交換器→混合離子交換器→微孔過濾器→用水點採用二級反滲透方式製取生產蓄電池用超純水
2、原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→第一級反滲透→PH調節→中間水箱→第二級反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純化水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點
採用電去離子EDI方式製取生產蓄電池用超純水
3、原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI系統→微孔過濾器→用水點
三種工藝比較
目前製備電子工業超純水的工藝基本上是以上三種，其餘的工藝流程大都是在以上三種基本工藝流程的基礎上進行不同組合搭配衍生而來。現將他們的優缺點分別列於下面：第一種採用傳統的離子交換樹脂其優點在於初次投資少，占用的地方少，但缺點就是需要經常進行離子再生，耗費大量酸鹼，而且對環境有一定的破壞。
第二種採用反滲透+離子交換設備，其特點為初次投資比採用離子交換樹脂方式要稍高，但離子再生周期相對要長，耗費的酸鹼比單純採用離子樹脂的方式要少很多。是目前比較經濟與流行的一種工藝。
第三種採用反滲透作預處理再配上電去離子裝置，這是目前製取超純水最先進，最環保的的工藝，不需要用酸鹼進行再生便可連續製取超純水，對環境沒什麼破壞性。其缺點在於初次投資相對以上兩種方式過於昂貴。
設備特點
電子工業超純水設備通常由多介質過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等構成預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床(EDI電除鹽系統)系統等構成主要設備系統。原水箱、中間水箱、RO純水水箱、超純水水箱均設有液位控制系統、高低壓水泵均設有高低壓壓力保護裝置、線上水質檢測控制儀表、電氣採用PLC可程式控制器，真正做到了無人值守，同時在工藝選材上採用推薦和客戶要求相統一的方法，使該設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。套用領域
1、半導體材料、器件、印刷電路板和積體電路成品、半成品用超純水;2、超純材料和超純化學試劑勾兌用超純水;
3、實驗室和中試車間用超純水;
4、汽車、家電錶面拋光處理;
5、光電子產品;
6、其他高科技精微產品。
