概述
半導體、積體電路晶片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模積體電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。積體電路的集成度越高，線寬越窄，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。工作原理
1.主要部分流入樹脂/膜內部，而另一部分沿模板外側流動，以洗去透出膜外的離子。2.樹脂截留水中的溶存離子。
3.被截留的離子在電極作用下，陰離子向正極方向運動，陽離子向負極方向運動。
4.陽離子透過陽離子膜，排出樹脂/膜之外。
5.陰離子透過陰離子膜，排出樹脂/膜之外。
6.濃縮了的離子從廢水流路中排出。
7.無離子水從樹脂/膜內流出。
工藝流程
電子工業製備超純水的工藝大致分成以下3種：1、採用離子交換樹脂製備電子工業超純水的傳統水處理方式，其基本工藝流程為：原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→陽床→陰床→混床（復床）→超純水箱→超純水泵→後置保全過濾器→用水點
2、採用反滲透水處理設備與離子交換設備進行組合製備電子工業超純水的方式，其基本工藝流程為：原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設備→混床（復床）→超純水箱→超純水泵→後置保全過濾器→用水點
3、採用反滲透設備與電去離子（EDI）設備進行搭配製備電子工業超純水的的方式，這是一種製取超純水的最新工藝，也是一種環保，經濟，發展潛力巨大的超純水製備工藝，其基本工藝流程為：原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設備→電去離子（EDI）→超純水箱→超純水泵→後置保全過濾器→用水點
工藝比較
目前製備電子工業用超純水的工藝基本上是以上三種，其餘的工藝流程大都是在以上三種基本工藝流程的基礎上進行不同組合搭配衍生而來。現將他們的優缺點分別列於下面：1、第一種採用離子交換樹脂其優點在於初投資少，占用的地方少，但缺點就是需要經常進行離子再生，耗費大量酸鹼，而且對環境有一定的破壞。
2、第二種採用反滲透作為預處理再配上離子交換設備，其特點為初投次比採用離子交換樹脂方式要高，但離子設備再生周期相對要長，耗費的酸鹼比單純採用離子樹脂的方式要少很多。但對環境還是有一定的破壞性。
3、第三種採用反滲透作預處理再配上電去離子（EDI）裝置，這是目前製取超純水最經濟，最環保用來製取超純水的工藝，不需要用酸鹼進行再生便可連續製取超純水，對環境沒什麼破壞性。其缺點在於初投資相對以上兩種方式過於昂貴。
設備特點
電子工業超純水設備通常由多介質過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等構成預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床（EDI電除鹽系統）系統等構成主要設備系統。原水箱、中間水箱、RO純水水箱、超純水水箱均設有液位控制系統、高低壓水泵均設有高低壓壓力保護裝置、線上水質檢測控制儀表、電氣採用PLC可程式控制器，真正做到了無人值守，同時在工藝選材上採用推薦和客戶要求相統一的方法，使該設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。套用領域
1、半導體材料、器件、印刷電路板和積體電路成品、半成品用超純水；2、超純材料和超純化學試劑勾兌用超純水；
3、實驗室和中試車間用超純水；
4、汽車、家電錶面拋光處理；
5、光電子產品；
6、其他高科技精微產品；
7、食品加工類產品，如鹽
8、光伏、血透
EDI超純水機設備典型特徵
EDI超純水設備具有操作簡單、環保、技術先進等特點，代表著未來水處理行業發展方向，在醫藥、實驗室、食品、飲料、化工等行業都有廣泛套用，其處理效果也得到用戶肯定。EDI純水研究的面市是水處理行業一次新的嘗試，標誌著水處理行業最終跨入環保行業的先行者。
性能優勢
EDI水處理裝置性能優勢數不勝數，其能夠連續穩定的製備品質優良的超純水，不會因為樹脂再生而停止運行，設備結構設計相對靠緊，所以其占地非常小，可以為企業節省很多空間，超純水設備在出廠前均需進行裝置調試，所以設備故障幾率較小，日常保養、維修等操作都非常簡單。
