概述
半導體、積體電路晶片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模積體電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。積體電路的集成度越高，線寬越窄，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質 。
工藝流程
電子工業製備超純水的工藝大致分成以下3種：
1、採用離子交換樹脂製備電子工業超純水的傳統水處理方式，其基本工藝流程為：原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→陽床→陰床→混床（復床）→超純水箱→超純水泵→後置保全過濾器→用水點
2、採用反滲透水處理設備與離子交換設備進行組合製備電子工業超純水的方式，其基本工藝流程為：原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設備→混床（復床）→超純水箱→超純水泵→後置保全過濾器→用水點
3、採用反滲透設備與電去離子（EDI）設備進行搭配製備電子工業超純水的的方式，這是一種製取超純水的最新工藝，也是一種環保，經濟，發展潛力巨大的超純水製備工藝，其基本工藝流程為：原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設備→電去離子（EDI）→超純水箱→超純水泵→後置保全過濾器→用水點
設備特點
電子工業超純水設備通常由多介質過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等構成預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床（EDI電除鹽系統）系統等構成主要設備系統。原水箱、中間水箱、RO純水水箱、超純水水箱均設有液位控制系統、高低壓水泵均設有高低壓壓力保護裝置、線上水質檢測控制儀表、電氣採用PLC可程式控制器，真正做到了無人值守，同時在工藝選材上採用推薦和客戶要求相統一的方法，使該設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。
四、套用領域
1、半導體材料、器件、印刷電路板和積體電路成品、半成品用超純水；
2、超純材料和超純化學試劑勾兌用超純水；
3、實驗室和中試車間用超純水；
4、汽車、家電錶面拋光處理；
5、光電子產品；
6、其他高科技精微產品；
典型特徵
EDI電子超純水設備有著操作便捷、制水流程環保、制水技術一流的特點，同時代表著將來水處理行業發展前進的方向，除了在電子行業的套用之外，該種超純水設備在醫療製藥、實驗室用超純水、食品飲料製造等行業有著廣泛的套用，其處理效果也得到用戶肯定。電子級超純水處理設備設計原則
1、工程以投資省，運轉費用低，占地面積小為原則。
2、處理系統先進，設備運行穩定可靠，維護簡單、操作方便。
3、污水處理系統不產生二次污染源污染環境。
4、控制管理按處理工藝過程要求儘量考慮自控，降低運行操作的勞動強度。
