金屬矽化物

金屬矽化物是金屬與矽生成的化合物。常分成兩大類：(1)難熔金屬矽化物(2)貴金屬和近貴金屬矽化物。多在超大規模積體電路中使用。

metallic silicides
金屬與矽生成的化合物。
常分成兩大類：(1)難熔金屬矽化物，指周期表IVB、VB、VIB族元素的矽化物，如矽化鈦、矽化鋯、矽化鉭、矽化鎢等；(2)貴金屬和近貴金屬矽化物，如矽化鈀、矽化鉑、矽化鈷等。其共同特點是：熔點高(大都在1500℃以上)，最低共熔溫度高(大都在1000℃以上)。電阻率低(約為10-7Ω·m)，硬度高。
多在超大規模積體電路中使用，如用作金屬柵、肖特基接觸、歐姆接觸等。
製備方法主要是用澱積金屬與矽的混合物燒結而成。澱積法主要有：蒸發、濺射、電鍍、化學氣相澱積等。
金屬矽化物的特性是與酸反應生成矽烷。SiH4.