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濺射工藝
濺射工藝是以一定能量的粒子（離子或中性原子、分子）轟擊固體表面，使固體近表面的原子或分子獲得足夠大的能量而最終逸出固體表面的工藝。濺射只能在一定的真空狀態下進行。
濺射工藝 正文 配圖 相關連線 -
陰極濺射
圖1 陰極濺射原理圖 圖二
（一）濺射和輝光放電 （二）陰極濺射 -
二極濺射鍍膜
其次，二極濺射鍍膜的沉積速率低，10μm以上的厚膜不宜採用此法鍍制。 二極濺射速率之所以比較低，是由其放電形式所決定的。 二極濺射靶電壓高（幾千伏），靶...
原理簡介 發展套用 -
消氣劑濺射
當真空室內的真空度為13Pa時，在陰陽兩電極間加上一定的電壓，氣體發生自激放電，從陰極發射出的原子或原子團可沉積在陽極或真空室的壁上。 因此，外部電路中...
介紹 優點 缺點 相關詞條 相關連結 -
網遊之濺射
小說類型遊戲網遊內容簡介這是一個怎樣的國度?新生代替了沉睡,黑夜延續了光明。 這是一個怎樣的世界?一無所有,一切從零。 這是一個...
小說類型 內容簡介 -
離子濺射鍍膜法
離子濺射鍍膜與陰極離子浸蝕相反，離子濺射鍍膜，試樣是電路的陽極。 顯然，開始正式濺射鍍膜時，要換一個新的陰極。 濺射鍍膜的操作與濺射鍍膜設備是密切相關的。
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濺射薄膜高溫壓力變送器
FS、0.05% FS、0.03% FS、0.05%
概述 主要套用 性能參數 -
真空濺射鍍膜設備
版次：1 印次：1 7．1
圖書名：真空濺射鍍膜設備 目錄
