化學氣相澱積

化學氣相澱積，專業術語，是把含有構成薄膜元素的氣態反應劑引入反應室，在晶圓表面發生化學反應，從而生成所需的固態薄膜並澱積在其表面。

英文

:CVD(Chemical Vapor Deposition)

釋義

指把含有構成薄膜元素的氣態反應劑或液態反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體引入反應室，在襯底表面發生化學反應生成薄膜的過程。在超大規模集成電路中很多薄膜都是採用CVD方法製備。

化學氣相澱積特點

：澱積溫度低，薄膜成份易控，膜厚與澱積時間成正比，均勻性，重複性好，台階覆蓋性優良。