丁士進

丁士進

丁士進在2001年7月畢業於復旦大學,獲微電子學與固體電子學專業理學博士學位。發表過多篇優秀論文,現在理學-電子信息科學類專業任教。

基本信息

基本信息

丁士進丁士進

姓 名:丁士進
任教專業:理學-電子信息科學類
在職情況:在
性 別:男
所在院系:信息科學與工程學院微電子學系

本人簡介

2001年7月畢業於復旦大學,獲微電子學與固體電子學專業理學博士學位。
2001年10月至2002年11月受德國洪堡基金會(AlexandervonHumboldtStiftung,www.avh.de)的資助,在德國基爾(Kiel)大學工程學院FranzFaupel教授研究小組(www.uni-kiel.de/fakultas/tf/f_faupel/)從事低介電常數互連介質的金屬化以及納米金屬聚合物複合薄膜的研究,任洪堡基金會研究員(ResearchFellowofAlexandervonHumboldtFoundation)。
2003年2月至2004年12月,在新加坡國立大學電機系矽納米器件實驗室(www.ece.nus.edu.sg/sndl)任研究員(ResearchFellow),從事原子層澱積高介電常數介質薄膜、射頻和混合信號IC用高性能MIM電容器、非揮發有機聚合物存儲器的研究。
2004年12月底作為復旦大學引進人才加入微電子研究院,被聘為副教授。
現為IEEE會員、ChinesePhysicsLetters特約評審人、《中國科技論文線上》以及其它高校學報通訊評審人。曾為國際期刊ThinSolidFilms審稿。

代表性論文

1.Shi-JinDing,MinZhang,WeiChen,DavidWeiZhang,Li-KangWang,Memoryeffectofmetal-insulator-siliconcapacitorwithHfO2-Al2O3multilayerandhafniumnitridegate”,JournalofElectronicMaterials,acceptedforpublication.

2.DINGShi-Jin,HUANGYu-Jian,HUANGYue,PANShao-Hui,ZHANGWei,WANGLi-Kang,HighdensityAl2O3/TaN-basedmetal-insulator-metalcapacitorsforradiofrequencyintegratedcircuitapplications,ChinesePhysics,acceptedforpublication.

專業(網站用):
所教課程:微電子材料與工藝(研究生)、深亞微米工藝技術(本科生)

研究方向

分立式電荷俘獲快閃記憶體(基於納米晶或分立陷阱電荷存儲)

新型有機聚合物存儲器

射頻、模擬/混合信號IC用高性能MIM電容器

原子層澱積高介電常數柵介質及金屬柵技術

低介電常數介質及銅互連技術

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