襯底拋光設備

襯底拋光設備，其將諸如半導體晶片的襯底表面拋光至平坦鏡面光潔度。

詳細信息

根據本發明的襯底拋光設備包括：可旋轉工作檯(12)，其具有用於拋光半導體襯底(18)的拋光墊；光發射和接收裝置(80，82)，其用於發射測量光，以使之穿過設定在拋光墊(16)上的通孔到達半導體襯底(18)，並且接收來自半導體襯底(18)的反射光，以便測量該半導體襯底(18)上的薄膜；以及供給通道(44)，其用於向測量光的通道供應流體。該供給通道(44)具有設定在通孔(84)中的出口部分。