基片拋光設備

一種基片拋光設備，包括： 拋光台，基片被壓靠在上面。

簡介

基片拋光設備(10)拋光基片到平面鏡面光潔度。基片拋光設備(10)具有基片(20)被壓靠到其上的拋光台(12)、從拋光台(12) 發射測量光到基片(20)並接收從基片(20)的反射光用於測量基片(20) 上的薄膜的光發射和光接收裝置(24)、用於供給測量光和反射光通過的測量流體到設定在所述拋光台的光發射和光接收位置的流體腔(68)的流體供給通道(42)、和用於控制到流體腔(68)的測量流體的供給的流體供給控制裝置(56，58)。

權利要求

從所述拋光台發射測量光到所述基片並接收從所述基片的反射光、以測量所述基片上薄膜的光發射和光接收裝置； 用於供給測量流體到設定在所述拋光台的光發射和光接收位置的流體腔的流體供給通道，所述測量光和所述反射光通過所述測量流體；以及 用於控制到所述流體腔的所述測量流體供給的流體供給控制裝置。