結深

結深，是從矽中表面到擴散層濃度等於稱底濃度處之間的距離,一般以微米為單位計量。

結深

定義為從矽中表面到擴散層濃度等於稱底濃度處之間的距離,一般以微米為單位計量。
結深的測量，通常在100mlHF（49%）加幾滴HNO3d的混合液中對磨斜角（1°～5°）的樣品做化學染色，有時只要HF就夠了。如果樣品置於強光下照一兩分鐘，P型區要比n型區染色重。利用Tolansky干涉條紋技術，可精確測量0.5～100μm的結深。