簡介：
清洗、環保的含義，可以說早已覆蓋於半個世紀、、、、、、、、、、、、、、、、
隨著許多行業重視“清洗、環保”，其中，矽片清洗是半導器件製造中最重要、最頻繁的步驟之一，而且其清洗效率將直接影響到器件的成品率、性能和可靠性。如此一看，清洗與環保的掛鈎能與早世紀聞名如世的“超音波清洗機”做配合。
無衣無縫的配合完全可以以“矽片超音波清洗機”做一個完美的定格！這樣的關鍵在於清除矽片表面的污染雜質、有機物和無機物、表面的微粒和有害膜層。這樣的目的潔淨度是可以達到很高、很理想的。
清洗方法：
十全十美的事物不在話下；百分之百的機會也不在一時之間；而是勇於抓取其中之一的機會，哪怕是0.99％的機遇。所以，矽片超音波清洗機主要抓取了本身僅存在的優勢：“物理清洗和化學清洗”。
物理清洗分為三種：
①刷洗或擦洗:可除去顆粒污染和大多數粘在片子上的薄膜。
②高壓清洗：是用液體噴射片子表面，噴嘴的壓力高達幾百個大氣壓。高壓清洗靠噴射作用，片子不易產生劃痕和損傷。但高壓噴射會產生靜電作用，靠調節噴嘴到片子的距離、角度或加入防靜電劑加以避免。
③超音波清洗：超音波聲能傳入溶液,靠氣蝕作用洗掉片子上的污染。但是,從有圖形的片子上除去小於1微米顆粒則比較困難。將頻率提高到超高頻頻段，清洗效果更好。
化學清洗：是為了除去原子、離子不可見的污染,方法較多,有溶劑萃取、酸洗（硫酸、硝酸、王水、各種混合酸等）和電漿法等。其中雙氧水體系清洗方法效果好，環境污染小。一般方法是將矽片先用成分比為H2SO4:H2O2=5:1或4:1的酸性液清洗。清洗液的強氧化性,將有機物分解而除去；用超純水沖洗後,再用成分比為H2O:H2O2:NH4OH=5:2:1或5:1:1或7:2:1的鹼性清洗液清洗,由於H2O2的氧化作用和NH4OH的絡合作用，許多金屬離子形成穩定的可溶性絡合物而溶於水；然後使用成分比為H2O:H2O2:HCL=7:2:1或5:2:1的酸性清洗液，由於H2O2的氧化作用和鹽酸的溶解，以及氯離子的絡合性，許多金屬生成溶於水的絡離子，從而達到清洗的目的。
適用範圍：
威固特矽片超音波清洗機主要適用於矽片、精密元器件、電子真空器件等等。
產品類型：
VGT-6048F
