百科名片
最近幾年世界太陽能光伏技術普遍得到各國政府的重視和技支,也成為光伏產品的快速發展趨勢。價格的上升命使太陽能電池成本增加，為了提高生產效率，提高競爭力，太陽能生產廠商都加大力度降低矽片率，降低生產成本，同時對電池矽片的質量提出了高要求，在生產過程中套用超音波清洗技術更加滿足了生產商的這一要求。
適用於2”-8”基片的半導體清洗工藝中,有效去除矽/晶片表面的有機物、顆粒、金屬雜質、自然氧化層及石英、塑膠等附屬檔案器皿的污染物，且不破壞晶片表面特性。根據不同清洗工藝配置相應的清洗單元，各部分有獨立控制，隨意組合；可根據用戶要求配置氮氣槍、DI水槍、恆溫水浴、熱台、超聲清洗、DI水線上加熱裝置、DI水電導率測試儀器等。設備結構緊湊，淨化占地面積小，造型美觀、實用，操作符合人機工程原理。
設備特點
1.人機界面，PLC控制；
2.採用單臂機械手，可靈活調節清洗工藝；
3.各清洗槽設定拋動機構，保證清洗效果；
4.採用超音波清洗、鼓所沖洗等工藝；
5.採用28KHZ、40KHZ多頻段超音波；
6.全封閉機構，外形美觀。
7.設備內部安裝有維修照明燈，方便維修。
8.上下料有專用手推車，方便員工操作.
工藝流程
料→NO.1超音波粗洗→NO.2超音波精洗→NO.3高壓噴淋清洗→NO.4超音波漂洗→NO.5超聲漂洗→NO.6熱風乾燥→下料
套用範圍
| 設備適用於： | |
| 1 | 爐前清洗：擴散前清洗。 |
| 2 | 光刻後清洗：除去光刻膠。 |
| 3 | 氧化前自動清洗：氧化前去掉矽片表面所有的沾污物。 |
| 4 | 拋光後自動清洗：除去切、磨、拋的沾污。 |
| 5 | 外延前清洗：除去埋層擴散後的SiO2及表面污物。 |
| 6 | 合金前、表面鈍化前清洗：除去鋁布線後，表面雜質及光膠殘渣 |
| 7 | 離子注入後的清洗：除去光刻膠，SiO2層 |
| 8 | 擴散預澱積後清洗：除去預澱積時的BSG和PSG。 |
| 9 | 外延前清洗：除去埋層擴散後的SiO2及表面污物。 |
| 10 | CVD後清洗：除去CVD過程中的顆粒。 |
