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光學掩模版
光學掩模版在薄膜、塑膠或玻璃基體材料上製作各種功能圖形並精確定位，以便用於光致抗蝕劑塗層選擇性曝光的一種結構。掩膜版套用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領域都...
簡介 種類 製作方法 工藝過程 -
掩模製作技術
的技術，亦稱製版技術。光掩模版半導體積體電路製作過程通常需要經過多次光刻...的、具有特定幾何圖形的光複印掩蔽模版，簡稱光掩模版。光掩模版是光刻工藝中複印...掩模版的質量，包括各種掩模精度、缺陷密度和掩模版的耐用性能等都提出了極高...
製版技術 光掩模版 技術系統 材料製備 -
標準線
的掩模版中最常用於手持式等等，而刻度更廣泛地用於示波器的蓋子和類似的角色...（而不是猜測或估計）範圍。 （2）線十字線蝕刻的“FinnDot”掩模版...的玻璃板，這允許在形狀上有更大的緯度。蝕刻的玻璃光罩可以具有不穿過掩模版...
簡介 使用 -
光刻機
概要生產積體電路的簡要步驟：• 利用模版去除晶圓表面的保護膜。• 將晶...留在晶圓表面的雜質。其中曝光機就是利用紫外線通過模版去除晶圓表面的保護膜的設備。一片晶圓可以製作數十個積體電路，根據模版曝光機分為兩種：• 模版和...
概要 主要廠商 品牌 分類 紫外光源 -
光刻
物理部件在晶圓表面或表層內構成。這些部件是每次在一個掩膜層上生成的，並且...：a、接觸式曝光（Contact Printing）。掩膜板直接與光刻膠層接觸。曝光出來的圖形與掩膜板上的圖形解析度相當，設備簡單。缺點：光刻膠污染...
基本介紹 光刻流程 準分子技術 極紫外技術 電子束技術 -
光刻技術
系統將預製在掩模版上的器件或電路圖形按所要求的位置，精確傳遞到預塗在晶片...好、曝光設備簡單、操作方便和生產效率高等特點。但容易損傷和沾污掩模版和晶片上的感光膠塗層,影響成品率和掩模版壽命,對準精度的提高也受到較多的限制...
簡述 工藝流程 曝光系統 光抗蝕劑 基本步驟 -
掩模
掩模版（mask）簡稱掩模，是光刻工藝不可缺少的部件。掩模上承載有設計...掩模 [1] 。 掩模 表1 掩模與倍縮式掩模之間的區別掩模版的製作...去除暴露的鉻層，從而形成掩膜圖形。這時傳統掩模版的製造過程 [1] 。倍...
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微加工導論
的物理特性 8.3掩模版的製造 8.4將掩模版作為工具 8.5掩模版檢查、缺陷和修復 8.6習題 參考文獻與相關閱讀材料 第9章... 20.3刻蝕中的光刻膠效應 20.4無掩膜的刻蝕 20.5圖形...
簡介 目錄 -
定製積體電路
出發，藉助於計算機輔助設計系統，只須完成一、兩塊連線用的掩模版再進行後工序...的參量進行模擬計算。在得到符合要求的設計後，配合圖形發生器製作掩模版...陣列電路的掩模版是可程式序的，定製這類積體電路時，只須按要求改變一塊連線線...
簡介 設計和製作方法 半定製積體電路的相關術語和定義 半定製積體電路的設計實現 -
雷射光刻
刻蝕工藝①光複印工藝：經曝光系統將預製在掩模版上的器件或電路圖形按所...、操作方便和生產效率高等特點。但容易損傷和沾污掩模版和晶片上的感光膠塗層,影響成品率和掩模版壽命,對準精度的提高也受到較多的限制。一般認為，接觸式...
光刻技術 光複印和刻蝕工藝 曝光方式常用的曝光方式分類 光致抗蝕劑 技術特點
