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二元光學
二元光學是基於光波衍射理論發展起來的一個新興光學分支，是光學與微電子技術相互滲透、交叉而形成的前沿學科。基於計算機輔助設計和微米級加工技術製成的平面浮雕...
基本介紹 主要特點 主要進展 發展趨勢 -
opc[光學鄰近效應校正]
opc，指的是光學鄰近校正，作用是彌補衍射造成的圖像錯誤。
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掩模製作技術
）相互間能精確套準的、具有特定幾何圖形的光複印掩蔽模版，簡稱光掩模版。光掩模版...的迅速發展，對光掩模版的質量，包括各種掩模精度、缺陷密度和掩模版的耐用性能等都提出了極高的要求。以64千位MOS存儲器光掩模版為例,每個晶片單元...
掩模製作技術 -
標準線
）作為準直光學器件，其中光罩偏移或者在鏡子和觀察者之間。 準直的掩模版由...光學準直儀產生準直的光罩，以產生照明或反射的掩模版的準直圖像。這些類型...的掩模版中最常用於手持式等等，而刻度更廣泛地用於示波器的蓋子和類似的角色...
簡介 使用 -
光刻
物理部件在晶圓表面或表層內構成。這些部件是每次在一個掩膜層上生成的，並且...，噴出少量在正反面邊緣處，並小心控制不要到達光刻膠有效區域；b、光學方法...：a、接觸式曝光（Contact Printing）。掩膜板直接與光刻膠層...
基本介紹 光刻流程 準分子技術 極紫外技術 電子束技術 -
光刻機
概要生產積體電路的簡要步驟：• 利用模版去除晶圓表面的保護膜。• 將晶...留在晶圓表面的雜質。其中曝光機就是利用紫外線通過模版去除晶圓表面的保護膜的設備。一片晶圓可以製作數十個積體電路，根據模版曝光機分為兩種：• 模版和...
概要 主要廠商 品牌 分類 紫外光源 -
光刻技術
系統將預製在掩模版上的器件或電路圖形按所要求的位置，精確傳遞到預塗在晶片...好、曝光設備簡單、操作方便和生產效率高等特點。但容易損傷和沾污掩模版和晶片上的感光膠塗層,影響成品率和掩模版壽命,對準精度的提高也受到較多的限制...
簡述 工藝流程 曝光系統 光抗蝕劑 基本步驟 -
雷射光刻
複印和刻蝕工藝 ①光複印工藝：經曝光系統將預製在掩模版上的器件或電路圖形...設備簡單、操作方便和生產效率高等特點。但容易損傷和沾污掩模版和晶片上的感光膠塗層,影響成品率和掩模版壽命,對準精度的提高也受到較多的限制。一般...
光刻技術 光複印和刻蝕工藝 曝光方式常用的曝光方式分類 光致抗蝕劑 技術特點 -
非接觸位移感測器
的選擇。測量原理 共焦感測器是一種通過光學色散原理建立距離與波長間的對應...
測量技術發展歷史 測量原理 結構設計 信號數據處理 主要參數 -
共焦感測器
測量原理共焦感測器是一種通過光學色散原理建立距離與波長間的對應關係，利用光譜儀解碼光譜信息，從而獲得位置信息的裝置，如圖 1 所示，白光LED 光源發出的光通過光纖耦合器後可以近似看作點光源，經過準直和色散物鏡聚焦...
測量原理 結構設計 測量技術發展歷史 信號數據處理 主要參數
