相關詞條
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離子濺射法
離子濺射法，真空容器內，在高壓1500V的作用下，殘留的氣體分子被電離，形成電漿，陽離子在電場加速下轟擊金屬鈀，使金屬原子濺射到樣品的表面，形成導電膜。
基本資料 相關連結 -
濺射靶材
濺射靶材的要求較傳統材料行業高，一般要求如，尺寸、平整度、純度、各項雜質含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸與缺陷控制；較高要求或特殊要求包含：表面粗糙...
基本信息 主要套用 -
low-e
性能比較差 。除非膜層非常厚，否則其"u"值只是濺射法"Low-E"鍍膜...真空濺射法離線法生產Low-E玻璃，是國際上普遍採用真空磁控濺射鍍膜技術。用濺射法可以生產"Low-E"玻璃的廠家及產品有北美的英特佩公司...
定義 膜層特點 套用前景 生產方法 功能 -
low-e玻璃
，否則其"u"值只是濺射法"Low-E"鍍膜玻璃的一半。如果想通過增加膜厚來改善其熱學性能，那么其透明性就非常差。 離線真空濺射法 離線法生產Low-E玻璃，是目前國際上普遍採用真空磁控濺射鍍膜技術。用濺射法可以...
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lowe玻璃
儲存。它的缺點是熱學性能比較差 。除非膜層非常厚，否則其"u"值只是濺射法...透明性就非常差。離線真空濺射法離線法生產Low-E玻璃，是目前國際上普遍採用真空磁控濺射鍍膜技術。和高溫熱解沉積法不同，濺射法是離線的。且據玻璃...
性能 套用發展 製作 特點功能 顏色 -
濺射工藝
比蒸發原子高出1～2個數量級，因而用濺射法形成的薄膜與襯底的粘附性較蒸...的台階覆蓋也有好處。另外，用濺射法可以製備不能用蒸發工藝製備的高熔點、低蒸...加速而到達襯底。用此法製造薄膜，澱積速率比濺射法為高，與襯底的粘附力又比...
定義 原理 參考書目 -
圓晶
。CVD 法有外延生長法、HCVD ，PECVD 等。PVD 有濺射法和...) 加熱到800 oC 時會軟化並有流動特性，可使晶圓表面初級平坦化。深處理濺鍍第一層金屬利用光刻技術留出金屬接觸洞，濺鍍鈦+ 氮化鈦+ 鋁+ 氮化鈦...
基本介紹 製造過程 製造工藝 檢測系統 與摩爾定律 -
晶圓
等。PVD 有濺射法和真空蒸發法。一般而言， PVD 溫度低， ...化。深處理濺鍍第一層金屬利用光刻技術留出金屬接觸洞，濺鍍鈦+ 氮化鈦...
製造過程 製造工藝 專業術語 -
物理氣象沉澱法
以及濺射法等等。其中，電阻式蒸鍍法和電子束蒸鍍法均需要在高溫下使SiO...電阻絲蒸鍍法生產的產品，也有顯著提高。濺射法 濺射法也稱為“磁控濺射法”或者“高速低溫濺射法”。這種方法是採用單...
電阻絲蒸鍍法 電子束蒸發鍍膜法 濺射法 -
加工玻璃生產操作問答
內容簡介《加工玻璃生產操作問答》主要介紹了熱彎和鋼化玻璃、鍍膜玻璃、夾層玻璃、中空玻璃、真空玻璃等各類深加工玻璃產品的基本知識和...
內容簡介 編輯推薦 目錄 序言
