基本資料
真空容器內,在高壓1500V的作用下,殘留的氣體分子被電離,形成電漿,陽離子在電場加速下轟擊金屬鈀,使金屬原子濺射到樣品的表面,形成導電膜。
離子濺射法,真空容器內,在高壓1500V的作用下,殘留的氣體分子被電離,形成電漿,陽離子在電場加速下轟擊金屬鈀,使金屬原子濺射到樣品的表面,形成導電膜。
真空容器內,在高壓1500V的作用下,殘留的氣體分子被電離,形成電漿,陽離子在電場加速下轟擊金屬鈀,使金屬原子濺射到樣品的表面,形成導電膜。
濺射靶材的要求較傳統材料行業高,一般要求如,尺寸、平整度、純度、各項雜質含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸與缺陷控制;較高要求或特殊要求包含:表面粗糙...
基本信息 主要套用過程,容易獲得均勻的高精度的膜厚;通過離子濺射靶材料物質由固態直接轉變為...比蒸發原子高出1~2個數量級,因而用濺射法形成的薄膜與襯底的粘附性較蒸...的台階覆蓋也有好處。另外,用濺射法可以製備不能用蒸發工藝製備的高熔點、低蒸...
定義 原理 參考書目。CVD 法有外延生長法、HCVD ,PECVD 等。PVD 有濺射法和...將氮化矽去除離子注入離子布植將硼離子(B+3) 透過SiO2 膜注入襯底,形成P型阱離子注入法是利用電場加速雜質離子,將其注入矽襯底中的方法...
基本介紹 製造過程 製造工藝 檢測系統 與摩爾定律等。PVD 有濺射法和真空蒸發法。一般而言, PVD 溫度低, ...系統。除氮化矽此處用乾法氧化法將氮化矽去除離子注入晶圓離子布植將硼離子...雜質離子,將其注入矽襯底中的方法。離子注入法的特點是可以精密地控制擴散法...
製造過程 製造工藝 專業術語離子擴散性?314.玻璃表面離子互擴散性有哪些用途?315.什麼是玻璃...
內容簡介 編輯推薦 目錄 序言11章,內容包涵了真空鍍膜中物理基礎,各種蒸發源與濺射靶的設計、特點、使用...4薄膜的磁學性質參考文獻第3章蒸發源與濺射靶31蒸發源311蒸...發源材料319蒸發源的發射特性及膜層的厚度分布32濺射靶321濺...
主要有液相外延法、化學氣相沉澱法、濺射法、雷射沉澱法和蒸發法等。用量最多的軟...形成的,而是兩個磁性離子間的距離比較遠,並且中間夾著氧離子,事實上形成鐵磁性的電子自旋問的交換作用,是由於氧離子的存在而形成的。這種類型的交換作用...
簡介 鐵磁性材料原理 鐵氧體磁性材料的分類和套用 鐵氧體磁性材料的製備的,又稱鍍膜玻璃或陽光控制膜玻璃。它是採用熱解法、真空蒸鍍法、陰極濺射法...濺射法等,在玻璃表面塗以金、銀、銅、鋁、鉻、鎳和鐵等金屬或金屬氧化物薄膜...用電浮法等離子交換方法,以金屬離子置換玻璃表層原有離子而形成熱反射膜。熱...
基本簡介 發展歷史 熱反射 區別表達式 熱反射玻璃的特點基片,Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶,並以高能量轟擊靶表面,使靶材發生...附近成螺旋狀運行,從而增大電子撞擊氬氣產生離子的機率。所產生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。 磁控濺射 靶源分平衡式和非平衡式,平衡式靶...
原理 種類 濺射技術 磁控濺射設備的主要用途