馳豫時間

馳豫時間

弛豫時間 relaxation time,動力學系統的一種特徵時間。系統的某種變數由暫態趨於某種定態所需要的時間。在統計力學和熱力學中,弛豫時間表示系統由不穩定定態趨於某穩定定態所需要的時間。在協同學中,弛豫時間可以表征快變數的影響程度,弛豫時間短表明快變數容易消去。

馳豫時間馳豫時間

弛豫時間(relaxationtime)即達到熱動平衡所需的時間。
熱動平衡即因不同體系間的熱量傳遞趨於溫度相等而最終導致的動態平衡
人們把非平衡態向平衡狀態恢復的過程稱為弛豫過程。比如原子核從激化的狀態回復到平衡排列狀態的過程,又比如汽缸中的氣體從突然被壓縮到放出熱量趨於穩定的過程。弛豫過程一般遵循指數變化規律,其時間常數就是弛豫時間。理想氣體是忽略氣體分子相互作用的氣體,弛豫時間為零,而實際氣體的弛豫時間一般在毫秒量級。

作用

1 。 Softbake 的目的主要是把裡面的溶劑揮發掉,做完之後可能還會有 4-7% 的溶劑SB 和 Exposure 之間的馳豫應該是為了釋放應力,因為畢竟溶劑成分不一樣了還是會有比較大的應力變化。
2 。 Exp 和 PEB 之間的 delay 。如果用的是化學放大膠的話,就需要一步 PEB 。而且在 Exp 和 PEB 之間的時間延遲叫 post bake delay , PED 。我記得這個時間是不希望有的,而且光刻所用的波長越短,這個要求越嚴格。這個應該是為了防止光酸在 PED 內不應該有的擴散。
3 。 PEB 和 DEV 之間的延遲?這個我不記得了。做過 PEB 之後其實就有潛像了, latent image 。這個時候應該反應已經差不多了吧。好像我看別人寫的 recipe 沒有這個時間延遲的。至少可能不會是很長,小於從 PEB 出來後,在 Dev module 旁邊的 chill plate 上呆的時間。而這個時間,我覺得就是為了冷卻而已。
【 在 hdluliang (hdluliang) 的大作中提到 : 】

馳豫時間馳豫時間

在整個光刻過程中 , 有好多馳豫時間 , 而且不同的文獻中 , 馳豫時間又各不相同 . 比如 SB 與 EXP 有一段馳豫時間 ,EXP 與 PEB 之間有一段馳豫時間, PEB 與 DEV 之間又有一段馳豫時間 . 這些馳豫時間在整個光刻工藝中都起什麼作用呀 ?

試分析

tpwr:觀察道發射機功率,功率大信號就強

dof:去偶機偏置,這個是去偶的位置,比如是哪個氫原子去偶,或者對哪一個區域進行去偶

dm:去偶方式,nnn,nny,nyn,ynn......。nnn為不去偶,yyy為全程去偶,nny為反門控去偶等

dmm:去偶調整方式,這個又是作什麼用的呢?比如walz去偶,c去偶等

dpwr:去偶功率,這個大了小了,會有什麼影響?小了會去不乾淨,還可能會看到偶合

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