研究所概況
研究所是“現代光學技術”教育部重點實驗室、省重點實驗室的組成單位；“光學工程”為省重點學科。主要從事微納米結構製造技術、大口徑衍射光學元件、寬幅幅面微米結構雷射干涉光刻系統、新型顯示與光導器件、微納米壓印技術與設備、全息投影屏、薄膜照明器件、雷射轉移材料、衍射光學儀器等領域的研製與產業化工作。
建有衍射光學實驗室、光刻膠塗布實驗室、離子刻蝕實驗室、精密測量實驗室、光刻實驗室、微納米壓印實驗室和數碼雷射干涉光刻設備研究實驗室等。具有國內領先的雷射干涉光刻研究實驗條件。曾獲國家科技進步獎2等獎2項，江蘇省科技進步1等獎1項，3等獎2項，全國“發明創業獎”1項，全軍科技進步2等獎1項，江蘇省十大優秀髮明人 1項，全國留學回國人員成就獎1項等獎項。研究成員25名，碩博士學位人員占70%。陳林森研究員擔任“中國光學學會全息與光信息處理專業委員會”主任。
研究項目
目前，研究所成員承擔的研究項目有：
1. 國家“863”計畫：1項
2. 科技部863計畫：極端製造技術 1項
3. 科技部創新基金：1項
4. 江蘇省重大成果轉化專項：寬幅雷射直寫設備與雷射轉移材料產業化
5. 江蘇省發改委，工程技術中心建設：1項
6. 省六大人才高峰計畫（A類）：1項
7. 蘇州市科技計畫專項：1項
8. “青藍工程”創新團隊：1項
9. 國家自然基金項目：2項
10. 江蘇省高技術研究計畫：1項
以及其它部省市項目等，總研究經費超過2000萬元， 研究所共建有：江蘇省數碼雷射圖像與新型印刷工程技術研究中心；在蘇州工業園區共建了：蘇州蘇大維格數碼光學有限公司， 作為產學研基地、複合型高層次人才的培養基地、科技創新與成果轉化基地，涉及產學研總投入超過5500萬元。
光學工程博士點學科方向：微納米結構器件與製造技術、亞波長光學；碩士點學科的研究方向：光信息器件與技術；光電檢測技術與器件。
學術帶頭人
陳林森研究員：博士生導師，主要從事亞波長光學、數碼雷射干涉光刻技術與設備的研製、新型顯示與光導器件和微納米壓印技術套用的研究。主要主持863計畫、省重大成果轉化專項等課題。
吳建宏研究員：博士生導師，主要從事大口徑衍射光學器件、光譜檢測儀器和離子刻蝕技術的研究。主要主持863計畫等課題。
唐敏學研究員，碩士生導師，主要從事信息薄膜成像器件、精密成像光譜技術等領域的研製。主要主持國家自然基金課題。
