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積體電路掩模設計:基礎版圖技術
《積體電路掩模設計:基礎版圖技術》由清華大學出版社出版。
內容簡介 編輯推薦 作者簡介 目錄 -
掩模
掩模版(mask)簡稱掩模,是光刻工藝不可缺少的部件。掩模上承載有設計圖形,光線透過它,把設計圖形透射在光刻膠上。掩模的性能直接決定了光刻工藝的質量。在...
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掩模製作技術
掩模製作技術,半導體工藝技術中製作光刻工藝用的光複印掩蔽模版的技術,亦稱製版技術。
製版技術 光掩模版 技術系統 材料製備 -
積體電路版圖設計規則
積體電路版圖設計規則的作用是保證電路性能,易於在工藝中實現,並能取得較高的成品率。版圖設計規則通常包括兩個主要方面:①規定圖形和圖形間距的最小容許尺寸;...
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無錫中微掩模電子有限公司
中微掩模註冊資本現為1810萬元人民幣,由中國電子科技集團公司第58所、中國電子科技集團公司和下屬13所、24所、47所和55所共同出資組成。 長期以來...
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現代積體電路製造技術原理與實踐
本書共18章,主要內容包括:矽材料及襯底製備、外延生長工藝原理、氧化介質薄膜生長、半導體的高溫摻雜、離子注入低溫摻雜、薄膜氣相澱積工藝、圖形光刻工藝原理...
圖書信息 內容簡介 作者簡介 圖書目錄 -
積體電路版圖基礎
《積體電路版圖基礎》是2006年10月清華大學出版社出版的圖書,作者是(美)塞因特。
內容簡介 目錄 -
積體電路版圖基礎:實用指南
《積體電路版圖基礎:實用指南》是2006年清華大學出版社出版的圖書,作者是(美)塞因特,(美)塞因特
內容簡介 圖書目錄 作者簡介