相關詞條
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二極濺射鍍膜
二極濺射鍍膜是指在真空環境中利用粒子轟擊靶材產生的濺射效應,使得靶材原子或分子從固體表面射出,在基片上沉積形成薄膜的過程。屬於物理氣相沉積(PVD)製備...
原理簡介 發展套用 -
離子濺射鍍膜法
離子濺射鍍膜法是離子濺射形成干涉膜是增進相間襯度顯示組織的新方法。
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真空濺射鍍膜設備
《真空濺射鍍膜設備》是2010年機械工業出版社出版的圖書,作者是本社。
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濺射
濺射對於遠程有彈道英雄就像分裂斬對於近戰英雄,它和分裂斬有相似也有不同的地方。最大的不同在於AoE在彈道擊到的目標處決定,而不是分裂斬由攻擊者站立的地方...
Dota濺射 技術套用 -
濺射工藝
濺射工藝是以一定能量的粒子(離子或中性原子、分子)轟擊固體表面,使固體近表面的原子或分子獲得足夠大的能量而最終逸出固體表面的工藝。濺射只能在一定的真空狀態下進行。
定義 原理 參考書目 -
陰極濺射
當真空室內的真空度為13Pa時,在陰陽兩電極之間加上一定的電壓,氣體就會發生自激放電,從陰極發射出的原子或原子團可沉積在陽極或真空室的壁上。這種濺射就稱...
濺射和輝光放電 陰極濺射 -
光學鍍膜
光學鍍膜是指在光學零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝過程。在光學零件表面鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振...
概述 光學鍍膜基本原理 鍍膜工藝 鍍膜的折射率 鍍膜的厚度 -
離子鍍膜
離子鍍膜加工包括濺射鍍膜和離子鍍兩種方式。離子濺射鍍膜是基於離子濺射效應的一種鍍膜方式,適用於合金膜和化合物膜的鍍制。
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消氣劑濺射
當真空室內的真空度為13Pa時,在陰陽兩電極間加上一定的電壓,氣體發生自激放電,從陰極發射出的原子或原子團可沉積在陽極或真空室的壁上。 因此,外部電路中...
介紹 優點 缺點 相關詞條 相關連結 -
玻璃鍍膜技術
本書是玻璃加工技術叢書的一個分冊,主要介紹了玻璃鍍膜加工的基本知識和各種加工工藝,包括陽光控制膜、低輻射膜、自潔淨膜、電磁禁止膜、光伏用透明導電膜的加工...
內容簡介 圖書目錄 序言