離子鍍膜

離子鍍膜是在真空蒸發鍍的基礎上發展起來的新技術，其特點是鍍膜時，工件（基片）帶負偏壓，工件始終受高能離子的轟擊。

簡介

離子鍍是在真空蒸發鍍的基礎上發展起來的新技術，將各種氣體放電方式引入到氣相沉積領域，整個氣相沉積過程都是在電漿中進行的。離子鍍大大提高了膜層粒子能量，可以獲得更優異性能的膜層，擴大了“薄膜”的套用領域。是一項發展迅速、受人青睞的新技術。

特點

廣義來講，離子鍍膜的特點是：鍍膜時，工件（基片）帶負偏壓，工件始終受高能離子的轟擊。形成膜層的膜基結合力好、膜層的繞鍍性好、膜層組織可控參數多、膜層粒子總體能量高，容易進行反應沉積，可以在較低溫度下獲得化合物膜層。