氫缺陷

氫氣燒嘴 還原氫氣

整體運行工況及技術狀況：①發電機轉子是否存在接地或不穩定接地缺陷；②氫冷發電機是否存在漏氫缺陷或氫純度頻繁下降的缺陷，水冷發電機冷卻水水質、壓力、溫度等是否穩定地控制在合格範圍之內；③氫冷發電機機內氫氣濕度是否符合規程要求；④因故障長期倒用備用勵磁機運行至評價時已超過30天；⑤大修後電氣預防性試驗是否被迫低標準通過，試驗中發現的重要問題是否尚未解決。

簡介

非線性光學晶體材料KH2PO4(KDP)中不同帶電狀態的H缺陷的穩定性及其反應．從而以清晰的物理圖像描繪了KDP材料暴露在強紫外線或X射線下性能下降的原因．研究發現，對於H間隙原子，當增加一個電子時，H間隙原子與主H原子發生作用，形成間隙H2分子並產生一個H空位，而增加一個空穴時H間隙原子與臨近的主O原子形成氫氧鍵，這兩種帶電態的H間隙原子均切斷KDP材料中形成網路的氫鍵；對於H空位，增加一個空穴將導致形成“過氧化氫”橋結構．這些結果在原子層次上清楚地解釋了實驗所建議的缺陷反應機制。

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