山東省雷射偏光工程技術研究中心
山東省雷射偏光與光信息技術實驗室依託於曲阜師範大學雷射研究所,於1991
年經省教委批覆建設,95年成立了“山東省雷射偏光工程技術研究中心”。該實驗室(中心)是國家定點的雷射偏光技術與偏光器件專業科研生產基地的一個重要組成部分。實驗室擁有省委省府特批專款興建的科研教學大樓,面積3000多平方米,產學研設備1000多萬元,大型精密設備10餘台套,圖書資料10餘萬冊。實驗室下設十一個研究室:1、偏光物理學研究室2、偏光技術與器件研究室3、偏光光譜分析研究室4、延遲器件研究室5、光通信用無源器件研究室6、光學薄膜研究室7、X射線分析室8、磁光與低溫測量研究室9、光學基本測量實驗室 10、計算機技術與智慧型化控制研究室11、超快雷射實驗室。作為產學研三結合的基地,還建立了一座晶體光學工廠(6個車間),一個機械加工車間,承擔著雷射偏光器件全國供應任務和部分出口任務,本實驗室具有獨立法人資格及財務管理機構。
實驗室有光學專業博士點和碩士點各一個,光學專業碩士點已招收15屆碩士生,研究生人數達到86人,開設10餘門專業課程,教學質量較高,已畢業59人,近幾年碩士畢業生考博率90%以上。
實驗室是一個產學研三結合的新型實體,出成果、出產品、出人才。在雷射偏光器件方面的工作,結束了我國高精度雷射偏光器件產品依賴進口的歷史,產品覆蓋國內市場,出口美國、日本、澳大利亞、香港等國家和地區,取得了顯著的經濟效益和社會效益。實驗室目前開發三大類晶體器件:雷射偏光器件和偏光分束器件類、光相位延遲和補償器件類、退偏器件類,共35個系列700餘規格,與國家計量院共同主持起草了中華人民共和國國家標準《雙折射晶體和偏振器件測試規範(GB/T14077-93)》,已於1993年由國家技術監督局頒布實施,從而保證了產品的主要技術指標達到國際先進水平,並實現了標準化、系列化,商品化。
自“六五”以來,實驗室承擔國家重點科技攻關項目、火炬計畫項目、國家“863”課題、國家自然科學基金及省重點科技攻關項目40餘項,在鑑定的47項成果中,36項填補國家空白,20項屬國際首創。獲得包括國家發明獎、國家科學技術進步獎等各種獎勵和表彰90餘次,2001年李國華教授獲得何梁何利科學技術進步獎,2002年獲得國家科技進步二等獎。近五年承擔省重大專項課題和重大自主創新項目兩項,科研經費600餘萬元。
按照重點學科“十一五”發展規化要求,雷射偏光與光信息技術實驗室在職教授達到6~8人,副教授8人,具有較強的科技開發能力。實驗室還聘請周炳琨院士、乾福熹院士、徐至展院士、蔣民華院士、美國前光學學會主席Tingye Li博士等一批國內外知名專家為兼職教授,並有多名博士後或博士不定期來所參與科研開發工作。2001年我國光學泰斗王大珩院士專程來實驗室指導工作,為本實驗室今後的專業發展提出了指導性意見。
實驗室在科研、研究生教學的基礎上,不斷進行產業開發及創新,從提供技術服務到產品研發,已經積累了豐富的實踐經驗,可以在光學晶體器件設計及加工,光學系統設計及光學測量儀器開發,光機電算一體化自動控制,光纖通信無源器件研製等方面進行合作,提供技術服務或信息服務。
實驗室主要研究方向:
本實驗室有三個主要研究方向(一)雷射偏光技術與晶體器件設計:是實驗室的重點專業方向,也是一個長線專業,當前在國內具有唯一性,其任務是保持本學科國內優勢特色和領先地位,研製開發適合高新技術要求的新型晶體調製器件,主要工作是:1、向高效、特殊、專用器件發展,尤其強化有自主智慧財產權的成果研發;2、加強科技開發,保證滿足國內需求,擴大出口創匯規模。(二)光信息技術與套用:該研究方向主要在光學系統設計、偏光信息測量與處理、材料器件參量測量方法研究、光機電算一體化設計等方面加強工作,在實驗室器件設計的優勢基礎上,向儀器設備研製開發方向靠攏,在國內形成獨具特色的偏光信息測量技術研究與儀器設備研發基地。在國內屬先進水平。(三)光通信無源器件與相關功能材料:該研究方向在光纖通信無源器件研製開發、光通信無源器件功能材料試製及材料相關技術參數測試方法研究、薄膜技術、材料非線性等方面做研發工作,向光信息無源器件和特殊功能材料的產業化努力。新開拓研究方向,在國內屬一般水平。
科研人員:
實驗室目前有科研人員12人,其中高級職稱人員9人,博士學位7人,兼職專家教授近10人,享受國務院特殊津貼3人。實驗室學術帶頭人由國家有突出貢獻的中青年科學家李國華教授擔任,省突出貢獻中青年專家吳福全教授、宋連科教授等組成年輕的學術梯隊。
大型儀器設備:
1、真空鍍膜設備:主要從事薄膜研究及光通信器件的研發,實驗室現有真空鍍膜設備三套,其中韓國產超淨真空鍍膜設備近300萬人民幣,設備技術條件國際一流。2、光譜分析設備:主要研究材料及器件光譜特性,尤其是偏光特性,實驗室有光譜儀和分光光度計及配套設備4套,其中精密設備島津IR-460、UV-3101PC等儀器價值100餘萬,技術性能穩定,國際先進。3、膜厚分析測量設備:膜厚分析儀(台階儀)和可調磁場,主要分析膜層厚度及均勻性,價值60萬,國際先進;與超淨真空鍍膜配套設備“橢偏儀”約150萬,已經簽定意向契約。4、光纖通信分析測量設備:主要進行光通信無源器件的研製開發工作,設備包括光譜分析儀71451B、偏振分析儀HP8509A、光纖熔接機35 SZ、大防震實驗平台,價值100餘萬元。5、材料分析設備:主要包括X射線分析及定向設備3台,價值50萬,國內先進。6、光學精密加工設備:主要包括線切割機、內刃切割機、外圓切割機等設備5台,價值35萬,國內先進。
承擔主要課題:
1、信息光學技術無源器件和功能材料研製開發:這是一項開發信息產品研發的重要實驗室建設工程,經費用於超淨光學鍍膜研究室建設,現已基本建成①K級/M微塵的超淨化實驗室;②購置韓國產成套光學鍍膜機ML-EB900型。實驗室具國內先進水平。課題經費300萬元。 2、新型偏光器件和延遲器件:完成了器件的工藝設計,完善了器件的技術指標及測量手段,已經培訓10名技術人員,他們可以勝任晶體加工及器件質量檢測工作。3、光通信用高性能磁旋光單晶體生長及性能研究:採用TSSG生長技術,克服了緩慢冷卻結晶工藝的缺點,能夠得到均勻性較好的單晶。4、光相位信息自動測量分析系統數控工具機可靠性研究:採用面陣CCD進行二維光相位信息檢測嘗試,微機自動控制採集,快速數據處理。5、山東省自主創新重大科技發展計畫“光信息無源器件與雷射偏光測試技術”,投資380萬元。
取得的主要科研成果:
2003年“高性能晶體偏光器件研製與系列產品開發”獲國家科技進步二等獎,2005年“相位差值高精度消色差相位延遲器”等四項成果專利。