X射線光電子光譜學

(XPS)是一種量化的光譜學技術，用於測量材料中各種元素的經驗化學式，化學態和電子態。 XPS的物理原理XPS（X射線光電子能譜）的原理是用X射線去輻射樣品，使原子或分子的內層電子或價電子受激發射出來。 X射線光電子能譜因對化學分析最有用，因此被稱為化學分析用電子能譜（Electron

X射線光電子光譜學 (XPS)是一種量化的光譜學技術，用於測量材料中各種元素的經驗化學式，化學態和電子態。用x射線束照射材料的同時，測量動能和從材料表面1納米到10納米處逃逸的電子數，從而得到x射線光電子光譜。XPS測量在超高真空環境下進行。
XPS是一種表面

XPS的歷史

1887年，海因里希·魯道夫·赫茲發現了光電效應，1905年，愛因斯坦解釋了該現象。二十年後的1907年，P.D. Innes用倫琴管、亥姆霍茲線圈、磁場半球（電子能量分析儀）和照像平版做實驗來記錄寬頻發射電子和速度的函式關係
化學分析技術，可以用來分析金屬材料在特定狀態下或在一些加工處理後的表面化學。

XPS的物理原理

XPS（X射線光電子能譜）的原理是用X射線去輻射樣品，使原子或分子的內層電子或價電子受激發射出來。被光子激發出來的電子稱為光電子。可以測量光電子的能量，以光電子的動能為橫坐標，相對強度（脈衝/s）為縱坐標可做出光電子能譜圖。從而獲得試樣有關信息。X射線光電子能譜因對化學分析最有用，因此被稱為化學分析用電子能譜（Electron Spectroscopy for Chemical Analysis）.