介紹
氧化錫和氧化銻的不同比例所決定不同的性能和套用領域。
廣泛套用於半導體、電子顯現管、LED、節能環保(隔紅外,隔紫外)、防靜電、防輻射等領域。
其主要成分比例為SnO2:Sb2O3=90:10或SnO2:Sb2O3=95:5為比較常見。
特性
物理特性
指標名稱 | GN-P-A01 |
外觀 | 深藍色粉體 |
成份 | 銻錫氧化物 |
比表面積 | 65-80㎡/g |
配比 | SnO2:Sb2O3=90:10或其他配比 |
粒徑 | 7-15nm |
比電阻 | 30Ω.cm2(壓塊) |
純度 | ≥99.97%(基於金屬雜質) |
導電性
均勻分散的導電納米超微粒子的相互作用形成導電膜,導電膜中電荷移動可實現高透射率和防靜電(30Ω.cm2)
透明性
ATO納米超微粒子對可視光(380nm-780nm)的吸收率極弱,而且對可視光難以散射的大小粒子組成,所以有著高的透明性
隔紅外、隔紫外、防輻射性能
能有效地阻止紅外輻射和紫外線輻射,阻隔紅外效果達80%以上,阻隔紫外效果達65%以上。
套用領域
真空磁控濺射靶材
裝飾和功能鍍膜工業 Decorative & coatings
利用物理或者化學氣相沉積鍍膜,使工件增加防靜電性能能,防輻射性能等。
建築玻璃/汽車玻璃工業、柔性卷繞鍍膜工業
用於大面積磁控濺射鍍膜,如建築玻璃,汽車玻璃,低輻射玻璃,薄膜太陽能電池、ATO Film等工業,增加隔熱性能、隔紫外性能、防輻射性能、防靜電性能等。
光學鍍膜工業
適用於TFT,FED,PDP, OLED和CF(彩色濾光片)等各種顯示器基礎元件的鍍膜及大規模積體電路鍍膜領域。