電子倍增管原理
電子倍增管有一個高速的帶電粒子,如電子和離子撞擊偵測器表面時,可產生二次電子;再透過適當的形狀與電場的安排,產生一連串的二次電子來倍增訊號,最後到達陽極。通常一個電子加速撞極偵測器表面可以產生一到三個二次電子,多次撞擊使得電子數目倍增,其靈敏度相當高,可以用來偵測粒子的數目。 電子倍增管通常被用來偵測離子;也可以偵測光子,由光電效應產生的光電子來觸發。另一種偵測光子的元件,光電倍增管里,其二次電子是由一連串的電極,稱二次發射極,來倍增。此二次發射極為分離式的,通常每個二次發射極的電位差在 100 到 200 伏特,用來加速電子到下一個二次發射極,最後到達陽極。光電倍增管可在常壓下使用,而電子倍增管是設計在高真空環境下使用。
電子倍增管運作方式
電子倍增管一般是採用連續式的二次發射極。這是因為此電極表面的高電阻,使得二次電子和加速電場的分布可以組合在同一個元件里,而不需要分開。 通常為漏斗狀,材料為鍍上一層半導體薄膜的玻璃所構成。另一種平面二維的偵測器,稱微通道板,也是運用相同的原理。有別於微通道板有上百萬個微通道,電子倍增管使用單一個通道。
通道電子倍增器
通道電子倍增器(Channel Electron Multiplier,CEM)是一種連續的電阻管,如下圖所示,管子內壁經塗敷或其他處理,內壁表面電阻很大,為l09n量級的導電層,並且二次電子發射係數δ>3。工作時管子兩端加直流電壓,如1000V,管內建立了均勻電場。入射電子進入CEM的低電位端後,與管壁內表面相撞並發射出二次電子,這些電子被管內電場沿軸向加速,從場中獲得足夠高能量後又與管壁相撞並產生更多的二次電子,這個過程被多次重複,最後在高電位端輸出增益達10的電子束。
製作CEM材料應滿足下列要求:
(1)大的二次電子發射係數,一般δ>3。
(2)合適的均勻電阻層,以10Ω量級為最佳。
(3)化學穩定性好,蒸氣壓低。
目前使用的材料有兩種:高鉛玻璃、陶瓷半導體。
高鉛玻璃:拉製成管後,在玻璃內表面燒H還原,生長一層厚10nm的單晶Pb或Pb0的n型半導體膜,此膜δ>3,電阻為108~1010Ω,化學穩定性好,是目前使用最多的一種材料。
陶瓷半導體:BaTiO或BaZnTiO陶瓷半導體在高溫下燒結而成,它們具有耐轟擊、耐烘烤、有正的溫度係數和壽命長等優點;但它可塑性差,成形困難,使用時為得到相同增益所加的工作電壓要比高鉛玻璃高得多。
為了傳送和增強圖像,需要很細很細的通道成束,切片加工製成微通道板,簡稱MCP,它有幾十萬個微通道電子倍增管,如下圖所示。由於圖像解析度的要求,單通道直徑為6~10μm。
電子倍增管套用
最常用的檢測器是電子倍增管,原理和光電倍增管很相似。一定能量的離子打到電子倍增管電極表面,產生二次電子,二次電子又經多級倍增放大,然後輸出到放大器。信號經放大後由計算機處理,儲存或列印出報告。
電子倍增管被廣泛的運用在各種質譜儀里,用來偵測被離子化並通過分析器後的離子。通常質譜儀里都有電子倍增管和法拉第杯。在訊號很強時,使用法拉第杯;而訊號微弱時,使用電子倍增管。此外,電子倍增管也套用在電子顯微鏡,表面分析,x射線光電子能譜等多種需要偵測微量離子或電子的分析儀器里。