蒸發鍍膜
厚度影響因素
1。基片材料與靶材的晶格匹配程度
2、基片表面溫度
3. 蒸發功率，速率
4. 真空度
5. 鍍膜時間，厚度大小。
組分均勻性
蒸發鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調控的因素同上，但是由於原理所限，對於非單一組分鍍膜，蒸發鍍膜的組分均勻性不好。
晶向均勻性
1。晶格匹配度
2。 基片溫度
3。蒸發速率
鍍膜材料
氧化物
一氧化矽SiO,二氧化矽SiO2,二氧化鈦TiO2,二氧化鋯ZrO2,二氧化鉿HfO2,一氧化鈦TiO,五氧化三鈦Ti3O5，五氧化二鈮Nb2O5，五氧化二鉭Ta2O5,氧化釔Y2O3，氧化鋅ZnO等高純氧化物鍍膜材料。
氟化物
氟化釹NbF3,氟化鋇BaF2，氟化鈰CeF3，氟化鎂MgF2，氟化鑭LaF3，氟化釔YF3，氟化鐿YbF3，氟化鉺ErF3等高純氟化物。
其它化合物
硫化鋅ZnS，硒化鋅ZnSe，氮化鈦TiN，碳化矽SiC，鈦酸鑭LaTiO3，鈦酸鋇BaTiO3，鈦酸鍶SrTiO3，鈦酸鐠PrTiO3，硫化鎘CdS等真空鍍膜材料。
金屬鍍膜材料
高純鋁Al，高純銅Cu，高純鈦Ti，高純矽Si，高純金Au，高純銀Ag，高純銦In，高純鎂Mg，高純鋅Zn，高純鉑Pt，高純鍺Ge，高純鎳Ni,高純鉭TA，金鍺合金AuGe，金鎳合金AuNi，鎳鉻合金NiCr，鈦鋁合金TiAl，銅銦鎵合金CuInGa，銅銦鎵硒合金CuInGaSe，鋅鋁合金ZnAl，鋁矽合金AlSi等金屬鍍膜材料。
備註：生產的真空鍍膜材料均通過SGS認證，純度高，濺點少，放氣量小，薄膜均勻，附著力強，抗腐蝕性強，顏色均勻等優點。。
