蘇州蘇大維格光電科技股份有限公司

蘇大維格致力於行業共性技術與關鍵設備的開拓創新,高端微納圖形化直寫設備、微納材料研發,推進新型顯示、照明與成像行業的產業套用。 10年來的發展,蘇大維格成為A股深交所創業板上市企業(300331)。

基本信息

公司簡介

作為從事微納技術領域研發與製造的高技術企業, 蘇大維格致力於行

蘇大維格 蘇大維格

現有兩個廠區,占地110畝,建築面積4萬平米。 建有國家工程研究中心等研發創新平台。

第一廠區(1.3萬平米),蘇州工業園區鍾南街478號。其中,維格光電主營無縫鐳射包材、定製化全息印材、3D成像與光學防偽轉移材料、防偽燙金箔。維旺科技:建有中大尺寸超薄導光板(膜)產線。主營:超薄導光板(膜)、定向擴散增亮膜等微光學器件。具有獨立的光學設計、模具製備、評測和量產能力。套用於:平板電腦、智慧型手機,背光鍵盤、家電、汽車的LED超薄背光照明。

第二廠區(2.7萬平米): 蘇州工業園新昌街68號。公司總

部、國家地方聯合工程研究中心、新品中試平台設在第二廠區。建有工程化的寬幅微納米加工與製造研發設施與規模化製造能力。主營:1、公共安全解決方案:證卡防偽材料(變色Color-shift)、動態光學放大膜AMOS)。2、微納儀器設備:高速紫外雷射圖形化直寫設備、納米圖形化光刻設備、柔性納米壓印設備、雷射簽注防偽系統;3、3D成像材料與器件等。4、大尺寸透明導電薄膜(觸控感測器膜)產線、LED納米圖形化試驗基地設在第二廠區。

發展歷程

蘇州蘇大維格光電科技股份有限公司 蘇州蘇大維格光電科技股份有限公司

2001年底,蘇州蘇大維格數碼光學有限公司SVG DigitOptics在蘇州工業園區國際科技園註冊。2002年5月,正式投入運營。

成立初期,致力於“數碼雷射全息製版系統HoloMaker series”研發、雷射全息製版技術服務、光學防偽解決方案、產業化套用。其中,HoloMaker成為中國、香港及韓國、印度等的雷射全息行業關鍵設備,成功促進了中國光學防偽與包裝行業技術進步。為此,02年初,獲中華人民共和國科技進步二等獎,這是中國雷射全息行業頒發最高獎項。公司創始人、董事長是中國光學全息工程領域的著名專家,兼任中國光學學會光信息處理與全息專業委員會主任。

2003-2004年,研製成功“定向光變色膜(OVCF)”原版製造技術,成功套用於我國第二代身份證的物理視讀膜。同年,研發成功大型納米壓印設備(平壓平和卷對卷)。

2005年,自主研發並建立了中國首條“定位鐳射轉移材料生產線”,開創了“定位鐳射印刷轉移紙張”在菸草印刷包裝上的套用先河,“定位雷射轉移紙張”獲得中國專利授權。同年,公司獲江蘇省高新技術企業認定,通過ISO9001質量管理體系認證。取得了一批雷射光刻領域的發明專利權。

2006年,成立“江蘇省數碼雷射成像與顯示工程研究中心”(科技廳、財政廳批准),主要致力於超精密雷射圖形關鍵製造技術(光刻、直寫、刻蝕)和裝備、新型平板顯示背光模組關鍵材料、光學防偽解決方案、手機導光薄膜等製造技術的研發與套用。

2006年,研製成功“寬幅智慧型雷射SLM光刻設備工程樣機並投入套用,首家實現了大幅面、高速度的亞微米全息圖像的快速光刻,多項中國發明專利授權。企業獲“蘇州工業園區十佳科技創新小巨人”、“2004-2006年度蘇州工業園區民營科技創新十強企業”稱號。

2007年,建立蘇州工業園區博士後工作站維格分站。建立鐳射轉移膜產能;研製成功HoloScanV紫外雷射干涉光刻設備,這是國際上領先水平的亞微米雷射直寫系統。蘇大維格具有了國際一流的超精密圖形的設計與製造能力。

2007年,研製成功“DMD並行雷射光刻系統MicroLab”,具有超過10,000dpi的圖形解析度,主要套用於精密圖形設計製造(導光結構、亞微米圖形),研發成功手機導光薄膜(LGF),並成立蘇州維旺科技有限公司,專注於手機及平板顯示光學材料研發與製造。

2008年8月,蘇大維格數碼光學有限公司改制成為“蘇州蘇大維格光電科技股份有限公司”SVG Optronics,將業務領域擴大到“鐳射轉移材料”、“平板顯示材料”、“高端光學防偽解決方案”和“先進制造裝備”(超精密圖形雷射光刻設備,納米壓印工藝設備、LIGA技術套用等”。配合公安部相關研究院所研發DMD雙通道光變色膜,在我國“新駕駛證”“機動車行駛證”上全面套用。

2008年9月,蘇大維格的“寬幅智慧型雷射SLM光刻系統與套用”榮獲江蘇省科技進步一等獎(全省第一名)。

2008年11月,蘇大維格入選“蘇州市50家首批科技創新試點企業”。研發成功“導光薄膜”並套用於手機keypad。配合國家郵政印製局推出首套採用“定位鐳射圖形”29屆北京奧運會開幕式紀念郵票等(Stamp in commenoration of Openning ceremony of XXIX Beijing Olympic)。

2009年3月,HoloMakerIII-b出口日本;研製成功“無縫彩虹膜壓印設備和彩虹膜材料;大型無縫鐳射薄膜壓印設備出口印尼等國。

2009年4月,“雷射直寫設備iGrapher200”投入套用,具有350nm以上圖形直寫能力,支持複雜微結構圖形製造。

2009年5月,研製成功“微透鏡陣列光學薄膜”,建立了微透鏡陣列的批量製造能力。這是中國第一個集微透鏡陣列薄膜研發與製造能力的單位。研製成功具有突破意義的“ActiveMatrix”動態圖形光學防偽薄膜,擬用於高層(公安、金融等)防偽領域。

2009年7月,蘇大維格的“微鏡Fresnel技術”套用於茅台“白金酒”防偽包裝。

2010年5月,研製成功雙面UV微納結構動態光學放大膜。

2010年10月,研製成功超大幅面(1500mmx1300mm)雷射圖形化設備,填補了行業空白。

主營產品類

定製化光學(鐳射)包印材

導光膜 導光膜

定製化雷射轉移材料

專用燙金箔(電化鋁)

鐳射(光學全息)版紋展示

顯示照明光學材料器件

超薄導光板、新型透明導電膜

3D顯示、成像、增亮光學膜

光學防偽解決方案

品牌產品

高端光學防偽

微納圖形化製造與納米壓印設備

微圖形化:無掩膜雷射直寫

納米圖形化:紫外雷射混合光刻

雷射全息製版系統

卷對卷納米壓印設備

雷射原版與微納器件製備

微納結構樣品展示

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