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掩膜
掩膜（MASK）是指單片機掩膜是指程式數據已經做成光刻版，在單片機生產的過程中把程式做進去。優點是：程式可靠、成本低。缺點：批量要求大，每次修改程式就需...
單片機掩膜 圖像掩膜 -
掩膜產品
掩膜（MASK）是指單片機掩膜是指程式數據已經做成光刻版，在單片機生產的過程中把程式做進去。掩膜產品是掩膜工藝的成果。
優缺點 單片機掩膜 圖像掩膜 光掩膜 工藝要求 -
光掩膜板超音波清洗機
簡介 光掩膜板包含了整個矽片圖形特徵進行1：1圖形複製，這種掩膜板用於比較老的接近式光刻和掃描對準投影機中。光掩膜板的基材一般為熔融石英...都會影響鉻層，鉻層又會直接影響到整塊光掩膜板，光掩膜板上的任何缺陷都會對...
簡介 產品優勢 產品特點 產品型號 -
無掩膜光刻
無掩膜光刻是一類不採用光刻掩膜版的光刻技術，即採用電子束直接在矽片上製作出需要的圖形。無掩膜光刻可與光學光刻相比擬的新技術。無掩膜光刻其具備解析度高、成...
簡介 可與光學光刻相比擬 -
光刻
物理部件在晶圓表面或表層內構成。這些部件是每次在一個掩膜層上生成的，並且...：a、接觸式曝光（Contact Printing）。掩膜板直接與光刻膠層接觸。曝光出來的圖形與掩膜板上的圖形解析度相當，設備簡單。缺點：光刻膠污染...
基本介紹 光刻流程 準分子技術 極紫外技術 電子束技術 -
色散共焦感測器
測量技術發展歷史 隨著精密製造業的發展，對精密測量技術的要求越來越高。位移測量技術作為幾何量精密測量的基礎，不僅需要超高測量精度...
測量技術發展歷史 測量原理 結構設計 信號數據處理 主要參數 -
共聚焦感測器
測量技術發展歷史 隨著精密製造業的發展，對精密測量技術的要求越來越高。位移測量技術作為幾何量精密測量的基礎，不僅需要超高測量精度...
測量技術發展歷史 測量原理 結構設計 信號數據處理 主要參數 -
共焦感測器
測量原理共焦感測器是一種通過光學色散原理建立距離與波長間的對應關係，利用光譜儀解碼光譜信息，從而獲得位置信息的裝置，如圖 1 所...
測量原理 結構設計 測量技術發展歷史 信號數據處理 主要參數 -
色散共焦觸感器
測量技術發展歷史 隨著精密製造業的發展，對精密測量技術的要求越來越高。位移測量技術作為幾何量精密測量的基礎，不僅需要超高測量精度...
測量技術發展歷史 測量原理 結構設計 信號數據處理 主要參數 -
非接觸位移感測器
測量技術發展歷史 隨著精密製造業的發展，對精密測量技術的要求越來越高。位移測量技術作為幾何量精密測量的基礎，不僅需要超高測量精度...
測量技術發展歷史 測量原理 結構設計 信號數據處理 主要參數
