工藝
真空電鍍真空蒸鍍法是在高度真空條件下加熱金屬，使其熔融、蒸發，冷卻後在塑膠表面形成金屬薄膜的方法。常用的金屬是鋁等低熔點金屬。
加熱金屬的方法：有利用電阻產生的熱能，也有利用電子束的。
在對塑膠製品實施蒸鍍時，為了確保金屬冷卻時所散發出的熱量不使樹脂變形，必須對蒸鍍時間進行調整。此外，熔點、沸點太高的金屬或合金不適合於蒸鍍。
置待鍍金屬和被鍍塑膠製品於真空室內，採用一定方法加熱待鍍材料，使金屬蒸發或升華，金屬蒸汽遇到冷的塑膠製品表面凝聚成金屬薄膜。
在真空條件下可減少蒸發材料的原子、分子在飛向塑膠製品過程中和其他分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發源材料間的化學反應（如氧化等），從而提供膜層的緻密度、純度、沉積速率和與附著力。通常真空蒸鍍要求成膜室內壓力等於或低於10-2Pa，對於蒸發源與被鍍製品和薄膜質量要求很高的場合，則要求壓力更低（ 10-5Pa ）。
鍍層厚度0.04-0.1um太薄，反射率低；太厚，附著力差，易脫落。厚度0.04時反射率為90%。
特點
1> 真空鍍膜所獲得的金屬膜層很薄(一般為0.01~0.1um),能夠嚴格複製出啤件表面的形狀
2> 工作電壓不是很高(200V)﹐操作方便﹐但設備較昂貴﹒
3> 蒸鍍鍋瓶容積小﹐電鍍件出數少﹐生產效率較低﹒
4> 只限於比鎢絲熔點低的金屬(如鋁﹑銀﹑銅﹑金等)鍍飾﹒
5> 對鍍件表面質量要求較高﹐通常電鍍前需打底油來彌補工件表面缺陷﹒
6> 真空鍍膜可以鍍多種塑膠如﹕ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA等
