相關詞條
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氮化矽
氮化矽是一種重要的結構陶瓷材料。它是一種超硬物質，本身具有潤滑性，並且耐磨損，為原子晶體；高溫時抗氧化。而且它還能抵抗冷熱衝擊，在空氣中加熱到1000℃...
歷史 晶體結構和特性 合成方法 特點 套用 -
絕緣膜
能夠保證良好電絕緣性的薄膜。這種薄膜應當具有很高的電阻率(高於1010Ω·cm)和擊穿場強，而電子結構特點是禁頻寬度大。
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凝膠注膜成型
定義：該技術將傳統的陶瓷製作工藝結合有機單體聚合生成高分子的方法，利用有機單體聚合將陶瓷粉料懸浮體原位固化，之後經過乾燥、排膠、燒結等工藝過程製備複雜形...
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圓晶
將氮化矽去除離子注入離子布植將硼離子(B+3) 透過SiO2 膜注入襯底...)+2H2。乾法氧化通常用來形成，柵極二氧化矽膜，要求薄，界面能級和固定電荷密度低的薄膜。乾法氧化成膜速度慢於濕法。濕法氧化通常用來形成作為器件隔離用...
基本介紹 製造過程 製造工藝 檢測系統 與摩爾定律 -
張寶林[桂林理工大學材料科學與工程學院副院長]
氮化矽課題組工作，任助理研究員1995年9月-1996年7月：在斯洛法克...氮化矽課題組工作，任助理研究員1996年7月-1997年7月：上海矽酸鹽...氮化物為主的無機非金屬材料科學研究，包括熱壓氮化矽陶瓷刀具、熱等靜壓氮化矽...
人物經歷 講授課程 研究工作 曾經承擔項目 目前承擔項目 -
晶圓
氮化矽層，摻雜磷 (P+5) 離子，形成 N 型阱，並使原先的SiO2 膜... à SiO2(固)+2H2。乾法氧化通常用來形成，柵極二氧化矽膜，要求薄，界面能級和固定電荷密度低的薄膜。乾法氧化成膜速度慢於濕法。濕法氧化通常用來...
製造過程 製造工藝 專業術語 -
應力記憶技術
的膜層（如二氧化矽）作為保護層，對多晶矽柵極進行高溫退火；②源、漏極離子注入完成之後，採用高應力水平的膜層（如高應力氮化矽）作為保護層，再...高應力膜層（通常是氮化矽）沉積之後，額外增加一層光刻和刻蝕，去除PMOS...
簡介 應力記憶技術的分類 應力記憶的工藝流程 -
表面鈍化工藝
金屬化層上的鈍化膜。氮化矽氮化矽膜是惰性介質，介質特性優於二氧化矽膜，抗鈉...,生長出氮化矽膜。這種反應的溫度只需50～300℃,因是一種有效的新工藝...，使金屬表面生成一層鉻酸鹽鈍化膜的過程。常作為鋅、鎘鍍層的後處理，提高鍍層...
工藝介紹 重要性 磷矽玻璃 二氧化矽 氮化矽 -
自對準工藝
氮化矽膜層和二氧化矽膜層。除發射區和集電極接觸孔外，其他部位的二氧化矽膜全腐蝕掉。以二氧化矽膜作掩模，把硼注入到未摻雜多晶矽內，然後腐蝕掉氮化矽...氮化矽膜層和二氧化矽膜層。除發射區和集電極接觸孔外，其他部位的二氧化矽膜...
