橫模

在雷射器諧振腔中，把垂直於傳播方向上某一橫截面上的穩定場分布稱為橫模，即橫截面上光強的分布。這種情況下只有一個以工作物質直徑為直徑的基模輸出。多橫模損害了雷射器輸出的良好方向性，對聚焦非常不利，因此在需要完美聚焦的情況下，應當儘量 減少橫模。

工作原理

如果雷射器的諧振腔兩反射面及工作物質端面都是理想平面，就不會有除了基模以外的其它橫模輸出。這種情況下只有一個以工作物質直徑為直徑的基模輸出。因為此時只有基模狀態下的光才能形成多次反射諧振的條件。

但是事實上反射面和端面都不可能是理想平面，尤其是在固體雷射器中，工作物質受熱發生 凸透鏡效應，導致腔內經過工作物質、與基模方向略有差異的某些光也可能符合多次反射的諧振條件，於是雷射器會輸出幾個方向各不相同的光束。（這個方向差異通常非常小）

多橫模損害了雷射器輸出的良好方向性，對聚焦非常不利，因此在需要完美聚焦的情況下，應當儘量 減少橫模。

減少方法

減少橫模的主要途徑有：1、改善諧振腔反射鏡與工作物質端面所形成的光路的等效平面性，如果產生了凸透鏡效應則要想辦法補償；2、減小諧振腔和工作物質直徑。