相關詞條
-
圖像掩模
圖像掩模是用選定的圖像、圖形或物體、對待處理的圖像(全部或局部)進行遮擋來控制圖像處理的區域或處理過程。
-
積體電路掩模設計：基礎版圖技術
《積體電路掩模設計：基礎版圖技術》由清華大學出版社出版。
內容簡介 編輯推薦 作者簡介 目錄 -
積體電路掩模設計
內容介紹《積體電路掩模設計:基礎版圖技術》(翻譯版)的譯者曾在美國留學...，幫助您更加輕鬆愉快地掌握積體電路的掩模設計，激發您對於版圖設計工作的熱情...掩模設計:基礎版圖技術》(翻譯版)作者Christopher Saint...
內容介紹 -
半導體光刻技術
Canon的第三代300mm曝光機的混合匹配曝光能力已達到＜110nm...）或離子束投影曝光（IPL）。所謂RET是指採用移相掩模（PSM）、光學...相掩模（alt PSM）時，就要考慮到它的複雜、價格昂貴、製造困難、檢查...
矽片直徑300mm 要適合多代技術的需求 光學曝光 當前曝光的主流技術 -
軟X射線
雷射電漿光源、照明光學系統、微縮投影光學系統、掩模及矽片精密工作檯...範圍，必須使反射式掩模和矽片作同步掃描。在結構上，微縮投影光學系統為像方...的頻寬須嚴格匹配。 軟X射線 微縮光學系統理論解析度d由Fraunhofer...
簡介 發展背景 軟X射線投影光刻系統 軟X射線投影光刻關鍵技術研究現狀 -
二元光學
、機、電集成 的趨勢中，它們已顯得臃腫粗大極不匹配。研製小型、高效、陣列化...使用了本來是製作積體電路的生產方法，所用的 掩模是二元的，且掩模用二元編碼...、掩模技術、刻蝕技術和LIGA(同步輻射光成形)技術是核心技術。發展方向...
基本介紹 主要特點 主要進展 發展趨勢 -
掩膜
。③結構特徵提取,用相似性變數或圖像匹配方法檢測和提取圖像中與掩模相似...的圖形“底片”稱為掩膜（也稱作“掩模”），其作用是：在矽片上選定的區域中...，來控制圖像處理的區域或處理過程。用於覆蓋的特定圖像或物體稱為掩模或模板...
單片機掩膜 圖像掩膜 -
mask[半導體製造專業辭彙]
。③結構特徵提取,用相似性變數或圖像匹配方法檢測和提取圖像中與掩模相似...的圖形“底片”稱為掩膜（也稱作“掩模”），其作用是：在矽片上選定的區域中...，來控制圖像處理的區域或處理過程。用於覆蓋的特定圖像或物體稱為掩模或模板...
單片機掩膜 圖像掩膜 -
掩膜產品
匹配方法檢測和提取圖像中與掩模相似的結構特徵。④特殊形狀圖像的製作。掩膜...晶片工藝步驟採用光刻技術，用於這些步驟的圖形“底片”稱為掩膜（也稱作“掩模...。用於覆蓋的特定圖像或物體稱為掩模或模板。光學圖像處理中,掩模可以是膠片...
優缺點 單片機掩膜 圖像掩膜 光掩膜 工藝要求 -
微電子學英語
Aaccess control list 訪問控制表active attack 主動攻擊activeX control Acti...
