對準機

在晶片製造過程中，光學光刻是一個非常重要的組成部分。 曝光工具在圓片表面產生掩模圖形，它的設計和工作是光學系統設計的主要問題。 通過掩模上分離線條的光線形成照射圓片表面的輻照圖形，它也成為掩模的實像。

簡介

在晶片製造過程中，光學光刻是一個非常重要的組成部分。光刻的主要目的是，利用光在半導體矽片上刻出所需要的圖形。光學光刻可以分成兩部分。曝光工具在圓片表面產生掩模圖形，它的設計和工作是光學系統設計的主要問題。另一半是化學過程，一旦輻照的圖形被光刻膠吸收和圖形被顯影時，化學過程就發生了。通過掩模上分離線條的光線形成照射圓片表面的輻照圖形，它也成為掩模的實像。所討論的工具都是光學工具。它們套用可見光，紫外光（UV），深紫外光（DUV）或極深紫外光（EUV）作曝光光源。它們又稱為對準機（aligners)。