場發射透射電子顯微鏡

場發射透射電子顯微鏡

場發射透射電子顯微鏡可對金屬、礦物、半導體、陶瓷、生物、高分子、複合材料、催化劑等材料進行微觀形貌、晶體結構、晶體缺陷、晶粒晶向及成份分析。

基本簡介

場發射透射電子顯微鏡場發射透射電子顯微鏡
.可對金屬礦物半導體陶瓷生物高分子複合材料催化劑等材料進行微觀形貌、晶體結構、晶體缺陷、晶粒晶向及成份分析。 2.利用微區電子衍射、會聚束電子衍射及元素分析可對小至0.5nm尺度的物質進行結構和成分分析,因而特別實用於普通透射電鏡難以分析的微細析出相,界面和疇等極小區域內成分、結構的研究。 3.利用所配置的GIF系統不但可分析物質的組成元素而且可分析組成元素的價態。
儀器類別:03040701/儀器儀表 /光學儀器 /電子光學及離子光學儀器 /透射式電子顯微鏡

指標信息

具有高相干性、高亮度的場發射槍 最大傾轉角:X=±35°,Y=±30° 加速電壓:200kV、160kV、100kV、80kV 點解析度:0.23nm EDS元素範圍:B5~U92 晶格解析度:0.102nm EDS能量解析度:138eV 最小束班尺寸:0.5nm EELS能量解析度:0.7eV 最高放大倍數:1.5M
附屬檔案信息:1.Gatan公司的GIF系統 4.普通單、雙傾台 2.Link公司的EDS系統(超薄窗) 5.鈹單、雙傾台 3.日本電子株式會社的STEM系統 ,

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