簡介
研究領域：材料/ 生命科學/ 醫藥/ 地質/ 有機化學/
安放地點：
主要用途
適用於納粹材料精細形貌的觀察，可薛利高質量高分辨二次電子圖像。該儀器配備的X射線能譜儀可對塊狀樣品做定性及半定量分析。可向樣品室充入多種氣體，在低真空下仍能獲得優於2nm的高分辨圖像；可向樣品室通入水蒸氣，使含水、含油及不導樣品可直接觀察；可在樣品室內對樣品做加溫（可達1000℃）、低溫（達－20℃）處理，對化學反應過程進行實時觀測。該設備適用於物理、材料、半導體、超導體、化學高分子、地質礦物、生物、醫學等領域的微觀研究和分析。
儀器類別：0304070201/儀器儀表/光學儀器 /電子光學及離子光學儀器 /掃描式電子顯微鏡
指標信息：二次電子成像，背散射成像，陰極螢光成像；解析度：高真空：30KV時，為1.5nm；1KV時，為3nm； X射線能譜分析：能量分辨150eV；元素分析範圍B－U；高性能陰極螢光：具有對特定波長光譜分析與成像（指定波長光譜面分布）的能力，波長解析度優於30nm，測試的波長範圍是200nm－900nm。
附屬檔案信息：冷卻台、加熱台、X射線能譜、高性能陰極螢光探頭等附屬檔案。,
