光敏高分子成像材料

material 是一類在光照下發生光敏聚合或光敏降解的高分子材料。 負像成像用光敏聚合及光敏交聯法,如自由基光聚合和光引發的陽離子聚合。

photo-sensitive polymeric image material
是一類在光照下發生光敏聚合或光敏降解的高分子材料
利用曝光與未曝光部分的化學物理性質的不同,再經進一步的加工過程(定影顯影),在基體上得到與原圖相同的正像或負像的影像結構。
是非銀鹽成像材料的一個重要品種。通常由一種或多種光活性化合物和高分子成膜材料構成。
負像成像用光敏聚合及光敏交聯法,如自由基光聚合和光引發的陽離子聚合。正性成像則是使曝光部分有更好溶解度,光解產物容易被洗去。另一方法是光敏降解,採用的是丙烯酸酯類及其共聚物
已用於大規模積體電路的製作,光刻制板印刷、可讀寫式光碟等。

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