光敏高分子成像材料

material 是一類在光照下發生光敏聚合或光敏降解的高分子材料。 負像成像用光敏聚合及光敏交聯法，如自由基光聚合和光引發的陽離子聚合。

photo-sensitive polymeric image material
是一類在光照下發生光敏聚合或光敏降解的高分子材料。
利用曝光與未曝光部分的化學和物理性質的不同，再經進一步的加工過程(定影、顯影)，在基體上得到與原圖相同的正像或負像的影像結構。
是非銀鹽成像材料的一個重要品種。通常由一種或多種光活性化合物和高分子成膜材料構成。
負像成像用光敏聚合及光敏交聯法，如自由基光聚合和光引發的陽離子聚合。正性成像則是使曝光部分有更好溶解度，光解產物容易被洗去。另一方法是光敏降解，採用的是丙烯酸酯類及其共聚物。
已用於大規模積體電路的製作，光刻制板印刷、可讀寫式光碟等。