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光刻
光刻是平面型電晶體和積體電路生產中的一個主要工藝。是對半導體晶片表面的掩蔽物(如二氧化矽)進行開孔，以便進行雜質的定域擴散的一種加工技術。
基本介紹 光刻流程 準分子技術 極紫外技術 電子束技術 -
干涉光刻技術
分束器為達到干涉的效果，相干光必須在匯聚前被分束成兩個及以上數量的光束。 利用DLIP，不同的結構能夠在數秒內直接在基底上被製成，得到大面積上的周期性陣...
基本原理 相干性要求 分束器 套用及用途 -
軟X射線
射線投影光刻的多層膜大都用濺射鍍膜法製成。軟X射線投影光刻使用的多層膜要求...)。發展背景軟X射線投影光刻技術是現有可見-近紫外投影光刻技術向軟X射線...光刻系統成為可能。軟X射線投影光刻系統由圖所示，未來軟X射線投影光刻設備由...
簡介 發展背景 軟X射線投影光刻系統 軟X射線投影光刻關鍵技術研究現狀 -
現代套用光學
內容簡介近年來，套用光學領域中出現了許多新技術。本書基於作者多年光學領域的研究和積累，系統闡述了套用光學的現代理論和套用，並引入...
內容簡介 圖書目錄 -
半導體製造工藝
) 拉晶法(CZ法)。拉晶時，將特定晶向(orientation) 的晶種...) 太多，還需經過FZ法 (floating-zone) 的再結晶 (re...、金屬化、光刻、刻蝕、摻雜和平坦化等幾個主要工藝，具體每一道工藝中都詳細...
內容簡介 目錄 -
謝常青
、副研究員、研究員。 1993年起即從事深亞微米光學光刻和下一代光刻技術的研究開發工作，具有多年豐富的深亞微米、納米光刻經驗和堅實的理論研究基礎。 研究方向： (1)先進的納米光刻技術研究（包括深紫外雷射直寫...
簡介： 兼職情況： 學習和工作經歷： 研究方向： 主要業績： -
微細加工
，電子束加工，粒子束加工，光刻加工，電鑄加工等。從狹義的角度來講，微細加工主...
簡介 特點 發展狀況 工藝產品 發展前景 -
圓晶
前必須進行化學刻蝕和表面清洗。初次氧化有熱氧化法生成SiO2 緩衝層...薄膜即可輕易製得觸鬚(短纖維)等，故其套用範圍極廣。熱CVD法也可分成常...-2.0Torr之間。作為柵電極的多晶矽通常利用HCVD法將SiH4...
基本介紹 製造過程 製造工藝 檢測系統 與摩爾定律 -
微加工導論
工藝部分包括了薄膜製備、外延、光刻、刻蝕、熱氧化、擴散、離子注入... 2.1顯微法和可視化 2.2橫向和垂直尺寸 2.3電學測試 2.4物理...離子質譜 2.8俄歇電子波譜法 2.9X射線光電子波譜法 2.10...
簡介 目錄
