高功率脈衝磁控濺射(HighPowerImpulseMagnetronSputtering,HiPIMS,又稱HighPowerPulsedMagnetronSputtering,HPPMS)是一種基於磁控濺射沉積的薄膜物理氣相沉積方法。HiPIMS在數十微秒的低占空比(<10%)短脈衝內採用kW·cm-2量級的高功率密度。HiPIMS不同常規磁控濺射的特性是其高的濺射粒子離化率和分子氣體解離速率,從而得到緻密的沉積薄膜。電離和解離率隨峰值靶功率的增加而增加,上限受放電過程由輝光向弧光轉變限制。需選擇合適的峰值電流和占空比以維持靶的平均功率與常規磁控濺射相當(1-10W·cm-2)。
相關詞條
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真空磁控濺射技術
真空磁控濺射技術是指一種利用陰極表面配合的磁場形成電子陷阱,使在E×B的作用下電子緊貼陰極表面飄移。 設定一個與靶面電場正交的磁場,濺射時產生的快電子在...
原理 特點 分類 方法 存在問題 -
磁控濺射法
磁控濺射法是在高真空充入適量的氬氣,在陰極(柱狀靶或平面靶)和陽極(鍍膜室壁) 之間施加幾百K 直流電壓,在鍍膜室內產生磁控型異常輝光放電,使氬氣發生電離。
優勢特點 反應類型 -
脈衝雷射沉積
脈衝雷射沉積(Pulsed Laser Deposition,PLD),也被稱為脈衝雷射燒蝕(pulsed laser ablation,PLA),是一...
簡介 歷史背景 機制 優點 存在問題 -
AE電源
。這個靈活的直流脈衝附屬檔案系列提供 10-200kW 的功率以及...的直流脈衝附屬檔案系列 通過允許在更大功率下運行,提高吞吐量 減少靶材污染...的通道 雙極脈衝直流電輸出,0-5kHz 高電流能力 四終端控制和晶圓的電壓...
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真空鍍
射靶、非平衡磁控濺射靶、直流脈衝疊加式偏壓電源等,組態靈活、用途廣泛,主要...;10- 6Torr)濺 射 靶: F 100mm磁控濺射源三隻濺射功率...簡介真空蒸鍍:在高真空下,通過金屬細絲的蒸發和凝結,使金屬薄層附著...
簡介 套用 -
輝光放電加熱
)重複脈衝的復輝電壓恢復至較高數值,與點火起輝時的高電壓接近或相同。 交流輝光放電用於磁控濺射鍍膜氣體放電的交流電源主要有雙極性脈衝(矩形波...的幾率大為增多,工作氣體離化率高,等離子阻抗低,射頻磁控濺射膜層沉積速率為...
簡介 分析 直流輝光放電 脈衝直流輝光放電 交流輝光放電 -
中國科學院上海光學精密機械研究所
二等獎 1999 超短脈衝高功率雷射系列新技術 國家技術發明二等獎 2000... 1995 小型化脈寬可調的超短脈衝高功率雷射系統 國家科技進步三等獎...、中科院強雷射材料重點實驗室、中科院高功率雷射物理重點實驗室 上海市...
歷史沿革 科研條件 科研成就 人才培養 文化傳統 -
電阻器
與電流的關係是非線性的。電阻器是電子電路中套用數量最多的元件,通常按功率和...工作所允許耗散的最大功率。對每種電阻器同時還規定最高工作電壓,即當阻值...的最大功率。有兩種標誌方法:2W以上的電阻,直接用數字印在電阻體上;2W...
組成 基本原理 分類 相關介紹 識別方法 -
濺鍍
鍍膜,即使高熔點材料也容易濺鍍,但對非導體靶材須以射頻(RF)或脈衝(pulse)濺射;且因導電性較差,濺鍍功率及速度較低。金屬濺鍍功率可達...陽極,氣體(氬氣Ar)壓力約幾Pa或更高方可得較高鍍率。磁控濺射:在陰極...
簡介 濺鍍機設備與工藝