AE電源是工業電源的領航者，性能穩定，品質可靠。
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產品型號：
電源系統
直流脈衝產品套件
AE 的脈衝產品系列具有各種功能，能夠滿足您所有的困難和各式各樣的工藝要求。這個靈活的直流脈衝附屬檔案系列提供 10-200kW 的功率以及 2-100kHz 的固定和可變頻率。這個系列的每一項產品在設計上均具有相當的特點，能夠針對反應和直流濺射提供經證實的優勢。
| 優勢 | 特點 |
| 功能廣泛 靈活的直流脈衝附屬檔案系列 通過允許在更大功率下運行，提高吞吐量 減少靶材污染 提高 10-200kW 的功率 提供 2-100kHz 的固定和可變頻率 | 出色的弧控制——在很多情況下，弧完全被消除。 離子能量更高 更大功率運行 基材溫度更低 靶材溫度更低 工藝靈活性和寬容度 系統整合容易 雙陰極功能（Astral® 產品） |
業界公認的 Pinnacle 直流電源平台具有絕佳的工藝一致性和控制功能，從而大大減少了工藝變化，提高了產量。這個緊湊、功能強大的套件提供了業界最低的存儲能量、最快的弧反應以及最廣的全功率運行阻抗範圍。
| 優勢 | 特點 |
| 最低的運行和安裝成本 業界最快的弧反應時間 可配置的弧反應參數 最大的工藝效率 精確的工藝控制 | 最低的存儲能量——每千瓦輸出不到 1mJ 無需調節輸出變壓器 4:1的阻抗範圍 靶材處理時間——最大限度地縮短新靶材的處理時間 ±0.1%的輸出重複性 joule 模式——最最佳化的能量傳送 |
Advanced Energy (AE) 的 Pinnacle Plus+ 電源為單體直流脈衝電源，為您的反應工藝提供脈衝直流電解決方案所有優點，包括使用簡單、節約成本以及具有絕佳的靈活性。結合標準直流電技術和經過工藝證明的脈衝直流電技術，Pinnacle Plus+ 電源與複雜而昂貴的交流電解決方案相比，沉積率更高，重複性能更好，薄膜質量更為優異。
| 優勢 | 特點 |
| 更高的沉積率與產品率 薄膜均勻性和品質一流 成弧造成的基材損壞減少 成本更低 系統整合容易 極佳的工藝靈活性和寬容度 重複性能 在過度曲線上運行穩定 吞吐量更高 便於監控 無與倫比的系統靈活性 | 一個緊湊型封裝 頻率調節範圍為 5-350kHz 占空比高達45% 電壓範圍寬——單輸出寬阻抗範圍 大功率運行 基材溫度低 單輸出（5kW 和 10kW 型號） 用於雙陰極生產的雙輸出（雙路5kW 型號） 絕佳的弧控制 反應性濺射閉環控制 |
Advanced Energy 的 Pinnacle 3000 直流電源提供最高的效率和功率因素，從而帶來業界最低的運行和安裝成本。 Pinnacle 工藝一致性和控制帶來的額外好處是使在正常濺射工藝和偏壓套用中的工藝變化明顯減少、產量提高。
| 優勢 | 特點 |
| 經過證明的 Pinnacle 性能和可靠性 最大的工藝效率——最低的運行和安裝成本 通用性——在濺射工藝和偏壓套用上均表現出色 快速、可配置的弧反應——弧損傷少 精確的工藝控制 多種顯示/控制選擇 符合安全/輻射標準 | 業界最高的效率和功率因素 緊湊——在一個 2-U、1/2支架封裝中，功率達 3000W 單輸出抽頭，疲憊範圍廣泛 Profibus 和 RS-232 串列通信 靶材處理時間——最大限度地縮短新靶材的處理時間 僅400 VAC 輸入 存儲能量低——每千瓦輸出不到6 mJ 在大於15%的功率下，輸出重複性為±0.1% Joule 模式——最最佳化的能量傳送 對輸出電平、擊穿電壓和工藝電壓的可程式限制 儲存設定自動保存 有 CE 標誌 |
在工藝和偏壓套用中，Pinnacle Diamond™ 直流電源都能提供最高的效率和功率因素，從而帶來業界最低的運行和安裝成本。 Pinnacle 絕佳的工藝一致性和控制帶來的額外益處是通過一個極其緊湊的部件大大減少了變化、提高了產量。
| 優勢 | 特點 |
| 經過證明的 Pinnacle 性能和可靠性 最大的工藝效率——最低的運行和安裝成本 通用性——在工藝和偏壓套用上均表現出色 快速、可配置的弧反應——弧損傷少 眾多顯示/控制選項 精確的工藝控制 符合安全/輻射標準 | 業界最高的效率和功率因素 緊湊——在一個 3-U、1/2支架封裝中，功率高達 15kW 單輸出抽頭，匹配範圍廣泛 Profibus 和 RS-232 串列通信 靶材處理時間——最大限度地縮短新靶材的處理時間 水冷式 僅400 VAC 輸入 存儲能量低——每千瓦輸出不到6 mJ 在大於15%的功率下，輸出重複性為±0.1% Joule 模式——最最佳化的能量傳送 對輸出電平、擊穿電壓和工藝電壓的可程式限制 儲存設定自動保存 有 CE 標誌 |
MDX 500 在真空環境中經久耐用，能夠在磁控環境中對不同類型的弧進行多級抑制和滅弧。在基本磁控濺射、射頻偏壓直流濺射以及直流偏壓射頻濺射中表現一流。其小巧的尺寸使其非常適合於實驗室系統和小規模的生產環境。
| 優勢 | 特點 |
| 超載內置保護 可靠性和耐用性 快速反應時間 兼容性認證 | 多級弧抑制及滅弧 用戶I/O接入 功率、電流或電壓調節功能 |
MDX 系列1 kW 和1.5 kW 電源在真空環境中經久耐用，其小巧的尺寸使其成為實驗室系統的理想解決方案。它們最常用作直流磁控濺射電源；在該領域，二者精密的調節性能、一流的滅弧功能和較低的存儲輸出能量使之成為業界領先產品。它們還在射頻濺射和蝕刻系統中被用作精密調節的偏壓電源。
| 優勢 | 特點 |
| 針對標準 Z 和低 Z 套用的兩種配置 高頻開關電路從線路到負載的效率超過90% Arc-Out™ 抑制電路 常用作直流磁控濺射電源 | 尺寸小 輸出紋波很低 可調節抑弧 |
Advanced Energy 的 E'Wave 雙極脈衝直流電源改善了表面均勻性，減少了DDPF工藝流程 (dual-damascene process flow, DDPF) 套用的鍍銅階段之附加消耗，包括在生產環境和銅工藝開發中的晶圓電鍍。E'Wave 電源提供多達三個通道，每個都有一個獨立驅動的雙極電源，能夠生成、存儲和運行多達15個由電流控制或由電壓控制的波形。
| 優勢 | 特點 |
| 絕佳的填隙 一流的表面均勻性 降低了附加消耗 強有力的監控 減少了無塵室空間要求 廣泛的配置選擇 | 通用波形形成 多達三個獨立控制的通道 雙極脈衝直流電輸出，0-5kHz 高電流能力 四終端控制和晶圓的電壓測量 主機接口 緊湊型封裝 |
PDX 系列小功率（1250和1400 W）及大功率（5000和8000 W）中頻電源為各種廣泛的工藝套用提供一種高效、緊湊、易於整合的電源。這些高度可靠的電源提高了工藝靈活性，提供廣泛的運行頻率範圍以最佳化工藝控制，確保較高的工藝重複性，並提高了吞吐量。
PEII 低頻系列
PEII 低頻系列電源提供40 kHz 脈衝輸出，具有增強的弧控制以及與高達60 kW 的輸出功率，該系列電源具有極寬的匹配阻抗，無輸出變壓器等外部組合硬體，特別適用於反應濺射。
| 優點 | 功能 |
| 恆功率、電壓或電流輸出 最高的靈活性與模組性 強大的電弧控制 自動製程保護裝置 極寬的祖抗匹配範圍 高功率密度 | 5 kW 和 10 kW 選項（主/從 至多達到60 kW） 內部負載匹配（10:1 阻抗範圍） 兩種不同的弧處理電路 高效能、緊湊型水冷式設計 多種可選配件 符合 CE 標準 |
LFGS 發生器是用於半導體生產和一般等離子處理的多功能射頻發生器。此類可變頻率發生器採用了一種半橋、D 類型放大器理念，擁有一種空冷式緊湊型的設計，可安裝在19英寸機架上面。典型的套用包括濺射、等離子蝕刻、化學氣象沉積、聚合以及表面處理。
| 優點 | 功能 |
| 可達到目前市場上可獲得的最低反射功率 | 空冷式設計 多功能前面板 脈衝模式：0到 10kHz 更完善的操作功能表 2個模擬用戶連線埠 RS-232 接口、乙太網接口及 PROFIBUS 接口 |
AE 的冗餘陽極濺射 (RAS) 分流感應器消除了單靶材反應濺射工藝的陽極消失的問題，從而能夠使此類系統接近直流濺射率。RAS 感應器新穎的設計中包括了兩個陽極和一個陰極，從而便於對現有的系統進行改進。主要套用為配合PEII低頻電源進行單靶磁控濺射。
| 優勢 | 特點 |
| 消除了陽極消失的現象 便於對現有的單陰極系統進行改進 減小了系統的空間要求 能夠實現高速率的介質反應濺射 確保了均勻的沉積率 促進電力的有效使用，簡化維護 成本低於雙陰極結構 幾乎消除了弧 | 單陰極結構 自清洗雙陽極 低頻直流電源輸入 基材偏壓 便於改進的設計 |
Advanced Energy (AE) 的 Crystal 電源非常適用於大面積玻璃鍍膜套用，如建築玻璃、汽車玻璃、減反射鍍膜和高反射鏡等。更低的故障率，回報您更高的產量。這些電源的可用功率為 180kW,120KW,60KW。為雙靶磁控濺射套用提供了更寬祖抗匹配的低頻率正弦工藝電源。AE 的 Crystal 電源是唯一特別為等離子環境而設計拓撲結構的交流電大功率電源。
| 優勢 | 特點 |
| 更靈活 產量更高 減少當機時間 吞吐量提高 | 寬阻抗匹配低頻率正弦工藝電源 大功率電源——最大180kW 功率 專為等離子環境而設計 |
Navigator 匹配網路提供在各種負載阻抗下進行快速、準確且可靠匹配的先進匹配技術。Navigator 匹配網路配備了由微處理器控制的步進電機電路和用戶可選的數字調諧算法，通過自動調整耦合等離子的復阻抗，最大限度地減小反射功率。選擇包括：用於實時測量和分析過程功率和阻抗的 Z’Scan® 射頻感測器，以及能夠通過一台個人計算機來監控並對匹配網路下達指令的虛擬前面板 (VFP) 軟體。
| 優勢 | 特點 |
| 加強了工藝控制 最大限度地減小反射功率 加速反應時間 有助於提高工具吞吐量和產量 | 數碼匹配平台 多種數碼調諧算法 實時過程功率和阻抗測量與分析 整合式儀器 簡化的設計 嚴格的測試 基於 PC 的監控軟體 |
與 CESAR® 射頻發生器相配套的是一個完整系列的 Variomatch™ 自動匹配網路。Variomatch 匹配網路覆蓋了各種阻抗，而且方便用戶進行現場配置。高度可靠的可變真空電容、固定感應器以及脈寬調製可控電機能給您帶來針對您等離子套用的迅速、可重複的阻抗匹配。目前我們還提供針對感應套用的特殊型號產品。可變匹配操作在沒有任何外部控制器的情況下可自動進行，但是也可通過 CESAR 射頻發生器的前面板進行手動控制。
| 優點 | 功能 |
| 擁有更強的靈活性，可在更廣的阻抗範圍內進行功率匹配操作 Greater process productivity Easy integration and control | 空冷式設計 可變真空電容器 多種匹配接頭， 阻抗範圍非常廣 Automatic, manual, and pre-set modes Plug-and-play operation High-performing components Reliable connectors Wide impedance range Digitally controlled tuning with intelligent motor driver technology DC bias measurement circuit |
這款半機架的3kW 的 Paramount 射頻 (RF) 功率輸送系統擁有更強的功率和阻抗測量性能，能夠在 13.56MHz 固定或可變頻率、50歐姆和非50歐姆負載下（電壓駐波比 (VSWR) 超過3:1），為您帶來出色的輸送功率精度和控制性能。能夠與最突然變化的等離子阻抗保持實時同步，Paramount 射頻功率輸送系統能為新一代技術節點帶來更快的轉換速度、更少的製程步驟以及更短的製程時間。其阻抗測量精度可與網路分析儀的水平相媲美，而可選頻率的調諧幾乎可以瞬間實現（達到毫秒數量級），其速度較市場上的任何其它產品都快。從而實現真正卓越的精確性、可重複性和對製程的控制。
| 優點 | 特點 |
| 憑藉卓越的功率輸送精度，實現前所未有的薄膜均勻度與傳送效能(throughput)的最最佳化 以更快的製程轉換來支持新一代蝕刻與沉積製程 幫助實現無縫的製程轉換 提高產量 實現投資回報最大化< | 新一代測量系統能夠在所有輸出範圍內（50歐姆和非50歐姆負載）對功率和阻抗進行極精確的測量 近乎瞬間的頻率調諧（可選） 可選脈衝和同步脈衝的脈衝頻率範圍很寬廣 可選的 HALO（高精確度、低輸出）及弧管理系統 緊湊半機架型外觀設計 |
通用 Apex 系列射頻電源和供電系統採用複雜的射頻轉換技術，在適合於真空室安裝的模組化設計中提供增大的產品和工藝可靠性。Apex 平台在針對半導體、平板顯示器或數據存儲製造以等離子為基礎的薄膜工藝中表現優異。
| 優勢 | 特點 |
| 更高的功率密度 更好的工藝靈活性 產量提高 持有成本降低 簡化工藝工具整合 靈活的通信 | 簡化的設計 真空室安裝、框架安裝、支架安裝和鞋盒式 (shoebox) 選擇 寬頻控制迴路和可選的高重複率脈衝 業界領先的弧管理 符合監管要求 |
靈活的 HFV 電源主要用作200和300 mm 晶圓製程、平板顯示器和 DVD 設備的等離子發生器，為離子化物理氣相沉積 (iPVD)、CVD 和蝕刻提供了工藝一致性。這種通用電源的特點有數字合成變頻輸出和微處理器控制，輸出功率電平為3、5和8 kW。此外，其輸出頻率範圍為1.765-2.165 MHz。固件上的頻率調諧參數可進行定製，以確保在各種真空室結構和工藝方法下的可重複運行。
| 優勢 | 特點 |
| 提高了 run-to-run 準確性 具有通用性 提高了可靠性 增強了工藝靈活性 降低了持有成本 | 可定製的頻率調諧參數 輸出頻率範圍為1.765-2.165 MHz 3、5和8 kW 的輸出功率電平 數字合成頻率輸出 微處理器控制 |
