簡介
電子束曝光系統澳大利亞研究人員正在研製世界最強大的納米設備之一——電子束曝光系統（EBL）。該系統可標記納米級的物體，還可在比人發直徑小1萬倍的粒子上進行書寫或者蝕刻。
電子束曝光技術可直接刻畫精細的圖案，是實驗室製作微小納米電子元件的最佳選擇。這款耗資數百萬美元的曝光系統將在澳大利亞亮相，並有能力以很高的速度和定位精度制出超高解析度的納米圖形。該系統將被放置在即將完工的墨爾本納米製造中心(MCN)內，並將於2010年3月正式揭幕。
套用
該設備將幫助科學家和工程師發展下一代微技術，在面積小於10納米的物體表面上實現文字和符號的書寫和蝕刻。此外，這種強大的技術正越來越多地套用於鈔票詐欺防偽、微流體設備製造和X射線光學元件的研製中，還可以支持澳大利亞同步加速器的工作。
對澳大利亞科學家研製最新的納米儀器十分重要，其具有無限的潛力，已被用於油漆、汽車和門窗的淨化處理，甚至對泳衣也能進行改進。而MCN與澳大利亞同步加速器相鄰，也能吸引更多的國際研究團隊的目光。
背景資料
MCN的目標是成為澳大利亞開放的、多範圍的、多學科的微納米製造中心。該中心將支持環境感測器、醫療診斷設備、微型納米制動器的研製，以及新型能源和生物等領域的研究和模型繪製。除電子束曝光系統外，MCN中還包含了高解析度雙束型聚焦離子束顯微鏡、光學和納米壓印光刻儀、深反應離子蝕刻儀和共聚焦顯微鏡等眾多設備。
