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電子束曝光
電子束曝光（electron beam lithography）指使用電子束在表面上製造圖樣的工藝，是光刻技術的延伸套用。光刻技術的精度受到光子在波長尺...
基本結構 電子束曝光系統 相關工藝 特點 操作 -
電子束曝光微納加工技術
《電子束曝光微納加工技術》，作者顧文琪，2004年7月由北京工業大學出版社出版，本書系統地介紹了電子束曝光技術的發展歷史和原理、系統的組成和分類、套用和發展前景。
基本信息 內容介紹 目錄 -
光學投影曝光微納加工技術(電子束離子束光子束微納加工技術系列專著)
《光學投影曝光微納加工技術(電子束離子束光子束微納加工技術系列專著)》，作者：姚漢民、胡松、邢廷文，由北京工業大學出版社於2006年出版，本書系統介紹主...
內容提要 編輯推薦 作者簡介 目錄 -
電子束與離子束微細加工
電子束與離子束微細加工是指通過具有一定能量的電子束、離子束與固體表面相互作用來改變固體表面物理、化學性質和幾何結構的精密加工技術。用具有一定能量的電子束...
正文 -
電子束誘導沉積
電子束誘導沉積（Electron beam-induced deposition，EBID）是一種使用電子束分解氣相分子，從而在襯底上的特定位置實現沉積...
實驗流程 優缺點 離子束誘導沉積 結構 相關條目 -
半導體光刻技術
半導體光刻技術發展已有多半個世紀了，現在它仍保持著強勁的發展態勢，大尺寸、細線寬、高精度、高效率、低成本的IC生產，對半導體設備帶來前所未有的挑戰。
矽片直徑300mm 要適合多代技術的需求 光學曝光 當前曝光的主流技術 -
微納米加工技術及其套用
《微納米加工技術及其套用》是2009年高等教育出版社出版的圖書，作者是崔錚。 本書總結多年來的實踐經驗與研究成果，並結合近年來國際上的最新發展，綜合介紹...
內容簡介 作者簡介 圖書目錄 -
電子束與離子束物理
技術、電子與離子束曝光等微細加工技術，加速器與自由電子雷射等領域的研究人員...內容介紹本書論述利用電子束和離子束工作和器件、儀器及裝置的基本原理...離子光學、空間電荷光學、相空間動力學與束流傳輸、電子束和離子束的統計動力學...
內容介紹 -
光刻技術
積體電路製造中利用光學- 化學反應原理和化學、物理刻蝕方法，將電路圖形傳遞到單晶表面或介質層上，形成有效圖形視窗或功能圖形的工藝技術。隨著半導體技術的發...
簡述 工藝流程 曝光系統 光抗蝕劑 基本步驟 -
電子投影曝光
光刻方法。當前主流技術仍然是光學曝光，光刻方法已從接觸、接近式、反射投影...以及移相掩膜（FSM）等技術，將使光學的曝光方法擴展到0.1μm分辦率...、X射線曝光法、電子投影曝光（EPL）法、離子投影曝光（IPL）法電子束...
超微細加工工藝 銅互連技術
