ISBN：10位［7563916695］13位［9787563916696］
出版社：北京工業大學出版社
出版日期：2006-12
定價：￥46.00元
內容提要
本書系統介紹主流光刻技術——光學投影光刻的工作原理、系統組成、
套用和發展前景，詳細介紹投影光刻物鏡、掩模矽片對準、雷射定位工件台
、分辨力增強技術以及整機集成。
全書共分七章，第一章為光學投影光刻基礎，介紹光學投影光刻的發展
、分類，光學投影光刻的關鍵單元技術及分系統，光學投影光刻在微納加工
技術中的套用；第二章為投影光刻的光學系統，包括投影物鏡、照明系統、
調平調焦分系統；第三章介紹掩模矽片對準技術，包括離軸對準、同軸對準
、同軸和離軸相結合的對準技術，同時討論掩模傳輸和預對準、矽片傳輸和
預對準技術；第四章介紹雷射工件台定位技術，詳細討論步進和掃描工件台
的工作原理、結構、激光干涉測量和控制，以及精密定位工件台的精度分析
；第五章為分辨力增強技術，介紹離軸照明：相移掩模、光學鄰近效應校正
、光瞳濾波、偏振成像等提高光刻分辨力和曝光圖形質量的技術和方法；第
六章為整機集成，介紹整機的主要性能、套刻坐標系及套刻精度分析、整機
電控系統、整機軟體系統、環境控制系統、整機框架設計等；第七章介紹光
學投影光刻的最新進展和納米光刻新技術的前景展望。
本書可作為微電子設備專業領域的研發人員和從事半導體、微機械、微
光學、紅外器件、顯示器件等微米納米級加工技術的科技人員的技術參考書
，同時還可作為相關高等院校教師、研究生和本科生的參考用書。
編輯推薦
本書系統地介紹了光學光刻技術的發展歷史、主流光刻技術——光學投影光刻的工作原理、分類、組成的分系統及關鍵單元技術、技術發展趨勢和前景。這本書是對我國光學光刻技術20多年來的工作實踐和創新成果的系統總結，同時還介紹了光學投影光刻的最新進展和納米光刻新技術的前景展望。各章節選題和結構合理。本書可作為微電子設備專業領域的科技人員和從事半導體、微機械、微光學、紅外器件、顯示器件等微(米)納(米)加工技術領域的科技人員的技術參考書，同時還可作為相關高等院校教師、研究生和本科生的參考用書。
作者簡介
姚漢民1944年11月生，男，1966年畢業於浙江大學光學儀器系光學儀器專業，研究員，博士生導師。曾任中國科學院成都分院院長、光電技術研究所所長、微細加工光學技術國家重點實驗室主任。長期從事光電跟蹤光學儀器和微電子光學設備的研究，1979年至今，參加JX-1型接近／接觸式光刻機，圓形電子束、可變矩形電子束曝光機雷射定位工件台系統，掩模缺陷自動檢測系統，1．5pan～2btm分步重複投影光刻機等研究工作。主持國家“八五”攻關項目O．8μm～1μm投影光刻機、中國科學院重大項目0．7μm～O．8μmi線投影曝光系統的研究。作為項目負責人，主持完成“九五”重大項目O．35μm投影光刻關鍵單元技術研究。作為首席專家完成中國科學院知識創新工程重大方向性項目“生物晶片儀器”項目研究。先後獲國家科技進步三等獎兩項，中國科學院科技進步一等獎四項、科技進步二等獎一項。
現為國際SPIE學會會員，中國光學學會會員，四川省學術和技術帶頭人。1991年享
目錄
前言
第一章光學投影光刻基礎
第一節微納光刻技術概述
一、微納加工光刻技術
二、微納加工光刻技術分類
第二節光學投影光刻
……
