電子抗蝕劑

resist)是用於電子束曝光的一種抗蝕劑,屬於高分子聚合物,其性能類似於光學曝光中的光致抗蝕劑,即輻照可使其產生化學或物理變化而形成圖形。 有正性電子抗蝕劑和負性電子抗蝕劑之分。 一般,負性電子抗蝕劑的曝光靈敏度比正性電子抗蝕劑的要高得多,但正性電子抗蝕劑的解析度要高於負性電子抗蝕劑。

電子抗蝕劑(electron resist)是用於電子束曝光的一種抗蝕劑,屬於高分子聚合物,其性能類似於光學曝光中的光致抗蝕劑,即輻照可使其產生化學或物理變化而形成圖形。有正性電子抗蝕劑和負性電子抗蝕劑之分。一般,負性電子抗蝕劑的曝光靈敏度比正性電子抗蝕劑的要高得多,但正性電子抗蝕劑的解析度要高於負性電子抗蝕劑。

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