光致抗蝕劑

光致抗蝕劑簡稱光刻膠或抗蝕劑，指光照後能改變抗蝕能力的高分子化合物。光蝕劑分為兩大類。①正性光致抗蝕劑②負性光致抗蝕劑。

起皺的光致抗蝕劑

簡稱光刻膠或抗蝕劑，指光照後能改變抗蝕能力的高分子化合物。光蝕劑分為兩大類。
①正性光致抗蝕劑：受光照部分發生降解反應而能為顯影液所溶解。留下的非曝光部分的圖形與掩模版一致。正性抗蝕劑具有解析度高、對駐波效應不敏感、曝光容限大、針孔密度低和無毒性等優點，適合於高集成度器件的生產。
②負性光致抗蝕劑：受光照部分產生交鏈反應而成為不溶物，非曝光部分被顯影液溶解，獲得的圖形與掩模版圖形互補。負性抗蝕劑的附著力強、靈敏度高、顯影條件要求不嚴，適於低集成度的器件的生產。