內容簡介
集成光學器件導論本書共分為10章，其中包括集成光波導理論、集成電光調製器、LiNbO3電光調製器電極靜態分析、光開關、集成光波導放大器、集成光波導電場感測器、有機聚合物光學器件、集成光學器件的套用、光束傳輸法和LiNbO3集成光學器件的製作技術等。
本書適合於從事集成光學、光纖通信、雷射技術和光信息處理的科技人員及高等院校相關專業的教師、研究生和高年級本科生作為教材或參考書。
目錄
前言
第1章 集成光波導理論
1.1平面光波導的射線理論
1.1.1 反射截面的相移係數
1.1.2 平面介質波導中的傳輸模式
1.1.3 波導損耗
1.2 平面波導傳輸模式的電磁場分析
1.2.1 TE波
1.2.2 導模攜帶的功率
1.3 三維波導傳輸模式的理論分析
1.3.1 馬克帝里(Marcatili)近似法
1.3.2 有效折射率法
1.4 兩種三維波導的理論分析
1.4.1 指數型折射率光波導的導模
1.4.2 拋物型波導的折射率
1.5 波導耦合理論
參考文獻
第2章 集成電光調製器
2.1 集成電光調製器的理論基礎
2.1.1 LiNbO3晶體的電光效應
2.1.2 相位調製
2.1.3 強度調製
2.2 集成電光調製器的基本參數
2.3 脊形電極結構的有限元法分析
2.3.1 全波分析方法
2.3.2 準TEM分析
2.3.3 數值分析結果
2.4 集成電光調製器的性能最佳化
2.4.1 集成電光調製器的仿真結構
2.4.2 中心電極寬度的最佳化
2.4.3 電極間距的最佳化
2.4.4 電極高度的最佳化
2.4.5 脊形光波導高度的最佳化
2.4.6 緩衝層厚度的最佳化
2.4.7 脊形集成電光調製器的最佳化 結果
參考文獻
第3章 LiNbO3電光調製器電極靜態分析
3.1 普通共面波導電光調製器的分析與設計
3.1.1特徵參量
3.1.2 施瓦茲變換
3.1.3 部分電容法
3.1.4 分布電容的計算過程
3.1.5共面波導的導體損耗
3.1.6 計算結果及分析
3.2 梯形電極共面波導調製器的分析
3.2.1 分布電容的計算過程
3.2.2 梯形電極結構的導體損耗
3.2.3 計算結果及分析
3.3 脊形結構共面波導調製器的分析
3.3.1 脊形結構橫截面的簡化圖形
3.3.2 分布電容的計算過程
3.3.3 脊形結構的導體損耗
3.3.4 計算結果及分析
3.4 結果分析
3.5 有限元法計算電場分布
參考文獻
第4章 光開關
4.1 光開關概述
4.1.1 光開關的套用
4.1.2 光開關的分類
4.1.3 光開關的主要性能參數
4.2 電光效應光開關
4.2.1 定向耦合器型光開關
4.2.2 干涉型光開關
4.2.3 Y分支型光開關
4.2.4 SOI波導光開關
4.2.5 BOA型光開關
4.3熱光效應光開關
4.3.1 M-Z干涉型熱光開關
4.3.2 數字型光開關
4.3.3 Y結和X結數字型光開關
4.4 磁光效應光開關
4.5 聲光效應光開關
4.6 其他類型光開關
4.6.1 機械式光開關
4.6.2 微電子機械系統／微光機電系統開關
4.6.3 液晶光開關
4.6.4 氣泡光開關
4.6.5 全息光開關
4.6.6 液體光柵開關
4.6.7 半導體多量子阱超快光開關
4.6.8 半導體光放大器門控光開關
參考文獻
第5章 光波導放大器
第6章 集成光波導電場感測器及其系統
第7章 有機聚合物光學器件
第8章 集成光學器件的套用
第9章 光束傳輸法
第10章 LiNbO3集成光學器件的製作技術
附錄
